• 3D IC集成和封装(英文影印版)
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3D IC集成和封装(英文影印版)

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作者(美)刘汉诚

出版社清华大学出版社

ISBN9787302600657

出版时间2022-04

版次1

装帧平装

开本16开

纸张胶版纸

页数476页

字数750千字

定价129元

货号SC:9787302600657

上书时间2024-04-26

文源文化

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品相描述:全新
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商品描述
作者简介:
"刘汉诚(John H. Lau),伊利诺伊大学香槟分校理论与应用力学博士,不列颠哥伦比亚大学结构工程硕士,威斯康星大学麦迪逊分校工程力学硕士,菲尔莱狄更斯大学管理科学硕士,台湾大学土木工程学士。
历任台湾欣兴电子股份有限公司CTO、香港ASM太平洋科技有限公司高级技术顾问、台湾工业技术研究院研究员、香港科技大学客座教授、新加坡微电子研究院MMC实验室主任、惠普实验室/安捷伦公司资深科学家(超过25年)。
拥有40多年的集成电路研发和制造经验,专业领域包括集成电路的设计、分析、材料、工艺、制造、认证、可靠性、测试和热管理等,目前研究领域为芯片异构集成、SiP、TSV、扇出/扇入晶圆/面板级封装、MEMS、mini/ micro LED、3D IC集成、SMT和焊接力学等。
发表480多篇论文,发明30多项专利,举办 300多场讲座,撰写20多部教科书(涉及3D IC 集成、TSV、优选 MEMS 封装、倒装芯片 WLP、面积阵列封装、高密度 PCB、SMT、DCA、无铅材料、焊接、制造和可靠性等领域)。
ASME Fellow、IEEE life Fellow、IMAPS Fellow,积极参与ASME、IEEE和IMAPS的多项技术活动。获得ASME、IEEE、SME等协会颁发的多项荣誉,包括IEEE/ECTC很好会议论文(1989)、IEEE/EPTC很好论文奖(2009)、ASME Transactions很好论文奖(电子封装杂志,2000)、IEEE Transactions很好论文奖(CPMT,2010)、ASME/EEP杰出技术成就奖(1998)、IEEE/CPMT电子制造技术奖(1994)、IEEE/CPMT杰出技术成就奖(2000)、IEEE/CPMT杰出持续技术贡献奖(2010)、SME电子制造全面很好奖(2001)、潘文渊杰出研究奖(2011)、IEEE 继续教育杰出成就奖(2000)、IEEE CPMT技术领域奖(2013)和 ASME 伍斯特·里德·华纳奖章(2015)等。
"
主编推荐:
"(1)源自工程实践。基于作者40多年的集成电路研发和制造经验,注重封装工艺技术和实际解决方案,是工程应用的实用指南。
(3)聚焦核心技术。重点介绍TSV,应力传感器,微凸点,RDL,硅中介层,芯片/芯片键合,芯片/晶圆键合,MEMS、LED、CMOS图像传感器的3D集成,以及热管理、可靠性等关键技术问题。
(2)拓展国际视野。洞悉国际前沿技术方向和发展趋势,熟悉优选技术和主流产品,有助于快速跟踪、独立发展相关核心技术。
(4)适合作为教材。源自作者开设的相关课程,配套PPT课件,内容系统全面,知识脉络清晰,讲解重点突出,有助于培养专业技术人才。
(5)应用领域广泛。3D集成是集成电路技术发展的重要创新方向,是实现电子产品微型化、高性能、低成本、低功耗的重要手段。

"
内容简介:
随着集成电路应用多元化,人工智能、物联网、自动驾驶、5G网络、高性能计算等新兴产业对封装技术提出更高要求,优选封装向着集成、三维、高速、高频方向发展。本书全面讲解3D集成技术的近期进展和发展趋势,重点讨论3D集成技术的关键技术、主要工艺问题和可行解决方案。本书适合从事电子、光电子、MEMS等器件3D集成研究的工程技术人员、技术研发人员和科研人员阅读,也可以作为相关专业高年级本科生和研究生的教材。
目录:
Preface

1 3D Integration for Semiconductor IC Packaging

1.1 Introduction

1.2 3D Integration

1.3 3D IC Packaging

1.4 3D Si Integration

1.5 3D IC Integration

1.5.1 Hybrid Memory Cube

1.5.2 Wide I/O DRAM and Wide I/O 2

1.5.3 High Bandwidth Memory

1.5.4 Wide I/O Memory (or Logic-on-Logic)

1.5.5 Passive Interposer (2.5D IC Integration)

1.6 Supply Chains before the TSV Era

1.6.1 FEOL (Front-End-of-Line)

1.6.2 BEOL (Back-End-of-Line)

1.6.3 OSAT (Outsourced Semiconductor Assembly and Test)

1.7 Supply Chains for the TSV Era-Who Makes the TSV

1.7.1 TSVs Fabricated by the Via-First Process

1.7.2 TSVs Fabricated by the Via-Middle Process

1.7.3 TSVs Fabricated by the Via-Last (from the Fron
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