高端光刻机像质检测技术（下册）
￥ 180.12 7.9折 ￥ 228 全新
仅1件
天津西青
认证卖家担保交易快速发货售后保障
作者王向朝
出版社科学出版社
出版时间2021-04
版次31
装帧其他
货号1202339503
上书时间2024-10-04
商品详情
- 品相描述：全新
- 新华文轩网络书店 全新正版书籍
- 商品描述
- 光刻机像质检测技术是支撑光刻机整机与分系统满足光刻机分辨率、套刻精度等性能指标要求的关键技术。本书系统地介绍了光刻机像质检测技术。介绍了国际主流的光刻机像质检测技术，详细介绍了本团队提出的系列新技术，涵盖了光刻胶曝光法、空间像测量法、干涉测量法等检测技术，包括初级像质参数、波像差、偏振像差、动态像差、热像差等像质检测技术。本书介绍了这些技术的理论基础、原理、模型、算法、仿真与实验验证等内容。以光刻机原位与在线像质检测技术为主，也介绍了投影物镜的离线像质检测技术，涵盖了深紫外干式、浸液光刻机以及极紫外光刻机像质检测技术。本书适用于从事光刻机研究与应用的科研与工程技术人员，可作为高等院校、科研院所相关领域的科研人员、教师、研究生与本科生的参考书。同时，可为现代光学精密检测、光学成像等领域的科技人员、研究生和高等院校的本科生提供参考。
图书标准信息
- 作者 王向朝
- 出版社 科学出版社
- 出版时间 2021-04
- 版次 31
- ISBN 9787030673558
- 定价 228.00元
- 装帧 其他
- 开本 16开
- 纸张 胶版纸
- 页数 500页
- 【内容简介】
- 光刻机像质检测技术是支撑光刻机整机与分系统满足光刻机分辨率、套刻精度等性能指标要求的关键技术。本书系统地介绍了光刻机像质检测技术。介绍了国际主流的光刻机像质检测技术，详细介绍了本团队提出的系列新技术，涵盖了光刻胶曝光法、空间像测量法、干涉测量法等检测技术，包括初级像质参数、波像差、偏振像差、动态像差、热像差等像质检测技术。本书介绍了这些技术的理论基础、原理、模型、算法、仿真与实验验证等内容。以光刻机原位与在线像质检测技术为主，也介绍了投影物镜的离线像质检测技术，涵盖了深紫外干式、浸液光刻机以及极紫外光刻机像质检测技术。
- 【目录】
-
作者介绍
序言
点击展开
点击收起
— 没有更多了 —
以下为对购买帮助不大的评价