微光学和纳米光学制造技术
￥ 244.25 ￥ 66 九五品
仅1件
作者(美)凯米 编著,周海宪,程云芳 译
出版社机械工业出版社
ISBN9787111394488
出版时间2012-09
版次1
装帧平装
开本16开
纸张胶版纸
页数196页
字数99999千字
定价66元
上书时间2024-07-11
商品详情
- 品相描述：九五品
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基本信息
书名:微光学和纳米光学制造技术
定价：66元
作者:(美)凯米 编著,周海宪,程云芳 译
出版社：机械工业出版社
出版日期：2012-09-01
ISBN：9787111394488
字数：268000
页码：196
版次：1
装帧：平装
开本：16开
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内容提要
本书详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法。 本书参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。本书可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计(尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究)的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。
目录
译者序前言章 面浮雕衍射光学元件1．1 制造方法1．2 周期和波长比1．3 光栅形状1．4 深度优化1．5 错位失对准1．6 边缘圆形化1．7 几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化1．8 表面纹理结构1．9 熔凝石英表面的纹理结构1．10 太阳电池的表面纹理结构1．11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法1．12 成形金属基准层的制造工艺1．13 转印成形和第一层掩模板的刻蚀1．14 转印成形和第二层掩模板的刻蚀1．15 转印成形和第三层掩模板的刻蚀致谢参考文献第2章 微光学等离子体刻蚀加工技术2．1 概述和回顾2．2 基本的刻蚀处理技术2．3 玻璃类材料的刻蚀工艺2．4 硅材料微光学结构的刻蚀2．5 具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺2．6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件2．7 Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺2．7．1 ZnSe和ZnS光学元件的应用2．8 红外刻蚀材料——红外玻璃IG62．8．1 IG6玻璃刻蚀工艺2．9 非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺2．9．1 高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术致谢参考文献第3章 使用相位光栅掩模板的模拟光刻术3．1 概述3．2 相位掩模技术3．3 光学元件的设计和制造3．3．1 光致抗蚀剂的性质3．3．2 相位掩模的设计3．3．3 微光学光致抗蚀剂处理工艺3．4 轴对称元件的设计和制造3．5 结论参考文献第4章 光学器件的电子束纳米光刻制造技术4．1 概述4．2 电子束光刻术4．2．1 电子束光刻术发展史4．2．2 电子束光刻系统4．2．3 电子束光刻技术4．3 特殊材料光学器件的纳米制造技术4．3．1 回顾4．3．2 硅4．3．3 砷化镓4．3．4 熔凝石英4．4 光学器件加工实例4．4．1 熔凝石英自电光效应器件4．4．2 熔凝石英微偏振器4．4．3 砷化镓双折射波片4．5 结论致谢参考文献第5章 纳米压印光刻技术和器件应用5．1 概述5．2 压印图形化和压印光刻术的发展史5．3 纳米压印光刻术的相关概念5．3．1 纳米压印组件和工艺5．3．2 纳米压印设备5．4 商业化器件的应用5．4．1 通信用近红外偏振器5．4．2 投影显示用可见光偏振器5．4．3 光学读取装置的光学波片(CD／DVD)5．4．4 高亮度发光二极管5．4．5 微光学(微透镜阵列)和衍射光学元件5．4．6 多层集成光学元件5．4．7 分子电子学存储器5．4．8 光学和磁数据存储5．5 结论致谢参考文献第6章 平面光子晶体的设计和制造6．1 概述6．2 光子晶体学基础知识6．2．1 晶体学术语6．2．2 晶格类型6．2．3 计算方法6．3 原型平面光子晶体6．3．1 电子束光刻工艺6．3．2 普通硅刻蚀技术6．3．3 时间复用刻蚀6．3．4 先进的硅微成形刻蚀工艺6．4 基于色散特性的平面光子晶体6．4．1 平面光子晶体结构中的色散波导6．4．2 负折射6．5 未来应用前景参考文献第7章 三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法7．1 对称性、拓扑性和PBG7．2 金属光子晶体7．3 金属结构的可加工性7．4 三维光子晶体的制造7．5 胶体模板法7．6 微光刻工艺7．7 利用“模压”技术制造光子晶体7．8 膜层应力7．9 对准7．10 表面粗糙度7．11 侧壁轮廓7．12 释放刻蚀7．13 测量方法、测试工具和失效模式7．14 结论致谢参考文献
作者介绍
序言
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【封面】
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