【现货速发】微纳米加工技术及其应用(第4版)(精)
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作者崔铮
出版社高等教育出版社
ISBN9787040543025
出版时间2020-10
装帧平装
开本16开
定价129元
货号29142644
上书时间2024-12-28
商品详情
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导语摘要
本书集作者多年来的实践经验与研究成果，综合介绍微纳米加工技术的基础，包括光学曝光技术、电子束曝光技术、聚焦离子束加工技术、扫描探针加工技术、微纳米尺度的复制技术、各种沉积法与刻蚀法图形转移技术、间接纳米加工技术与自组装纳米加工技术等。第四版在内容上反映了集成电路芯片加工技术的进步，不论是对初次涉足这一领域的大专院校的本科生或研究生，还是对已经有一定工作经验的专业科技人员，都具有很好的参考价值。
目录
章绪论
1.1微纳来技术与微纳米加工技术
1.2微纳米加工的基本过程与分类
1.3本书的内容与结构
参考文献
第2章光学曝光技术
2.1引言
2.2光学曝光方式与原理
2.2.1掩模对准式曝光
2.2.2掩模投影式曝光
2.3光学曝光的工艺过程
2.4光刻胶的特性
2.4.1光刻胶的一般特性
2.4.2正性光刻胶与负性光刻胶的比较
2.4.3化学放大胶
2.4.4特殊光刻胶
……
内容摘要本书集作者多年来的实践经验与研究成果，综合介绍微纳米加工技术的基础，包括光学曝光技术、电子束曝光技术、聚焦离子束加工技术、扫描探针加工技术、微纳米尺度的复制技术、各种沉积法与刻蚀法图形转移技术、间接纳米加工技术与自组装纳米加工技术等。第四版在内容上反映了集成电路芯片加工技术的进步，不论是对初次涉足这一领域的大专院校的本科生或研究生，还是对已经有一定工作经验的专业科技人员，都具有很好的参考价值。
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