套装-半导体干法刻蚀技术+半导体干法刻蚀技术 原子层工艺(全2册)
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作者(美)索斯藤·莱尔 等 著 丁扣宝 等 译
出版社机械工业出版社
ISBN9782200059002
出版时间2024-04
装帧平装
开本16开
定价208元
货号1203281363
上书时间2024-12-16
商品详情
- 品相描述：全新
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作者简介
野尻一男，1973年于群马大学工学部电子工学科本科毕业，1975年于群马大学工学研究科硕士毕业。1975年加入日立制作所，在半导体事业部从事CVD、器件集成、干法刻蚀的研究开发；特别是对ECR等离子刻蚀和充电损伤进行了开创性研究；作为技术开发领域的领导者，他还担任过多个管理职位。2000年加入泛林集团日本公司并担任董事兼CTO。2019年，独立并作为 Nanotech Research 的代表提供技术和管理咨询。1989年因“磁场微波等离子体刻蚀技术的开发及实用化”获得大河内纪念奖；1994年因“低温干法刻蚀设备的开发”获得日本机械工业振兴会通产大臣奖；获得2019年度DPS西泽奖。
目录
《半导体干法刻蚀技术:原子层工艺》
《半导体干法刻蚀技术(原书第2版)》
内容摘要
《套装-半导体干法刻蚀技术+半导体干法刻蚀技术 原子层工艺(全2册)》由(美)索斯藤·莱尔等著
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