• 3D集成手册--三维工艺技术(第3卷)(精)
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3D集成手册--三维工艺技术(第3卷)(精)

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作者(美)菲利普·加洛//(日)小柳光政//(德)彼得·拉姆|译者:吴道伟//王玮//刘建军//余欢

出版社中国宇航

ISBN9787515921648

出版时间2022-10

装帧其他

开本其他

定价128元

货号32075862

上书时间2024-09-04

书香美美

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   商品详情   

品相描述:全新
商品描述
目录
第1章  2008年以来的3D IC集成
第2章  3D集成和转接板技术的主要应用和市场趋势
第3章  2.5D/3D集成的经济驱动因素和障碍
第4章  转接板技术
第5章  TSV制造综述
第6章  TSV单元工艺和集成
第7章  ASET的TSV制备
第8章  激光辅助晶圆加工:穿透衬底钻孔和再布线层沉积的新视角
第9章  临时键合材料的需求
第10章  临时键合和解键合——材料和方法的更新换代
第11章  ZoneBOND:临时键合和室温解键合技术的最新进展
第12章  TOK的临时键合和解键合
第13章  3M晶圆支撑系统
第14章  临时键合和解键合工艺流程的比较
第15章  减薄、通孔露头和背面工艺概述
第16章  薄硅片背面减薄和应力消除技术
第17章  通孔露头和背面处理工艺
第18章  切割、减薄和抛光
第19章  三维集成的键合和组装概述
第20章  台积电(TSMC)的键合与组装
……

内容摘要
 3D集成手册的主要编辑是来自高科技公司和著名研究机构的顶级作者,这本书涵盖了3D工艺技术详细的细节。因此,从技术和材料科学的角度来看,本书主要
关注的是硅的形成、键合和解键合、减薄、露头和背面处理等工艺。本书的最后一
部分是关于评估和增强3D集成设备的可靠性,这是这种新兴技术大规模实施的先决条件。对材料科学家,半导体物理学家,和那些工作在半导体领域,以及IT和电气工程师有非常阅读价值。

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