• 半导体科学与技术丛书:窄禁带半导体物理学
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半导体科学与技术丛书:窄禁带半导体物理学

207 九五品

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北京西城
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作者褚君浩 编

出版社科学出版社

出版时间2005-03

版次1

装帧精装

上书时间2024-05-11

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品相描述:九五品
图书标准信息
  • 作者 褚君浩 编
  • 出版社 科学出版社
  • 出版时间 2005-03
  • 版次 1
  • ISBN 9787030144140
  • 定价 198.00元
  • 装帧 精装
  • 开本 16开
  • 纸张 胶版纸
  • 页数 934页
  • 字数 1144千字
  • 正文语种 简体中文
  • 丛书 华夏英才基金学术文库·半导体科学与技术丛书
【内容简介】
  《半导体科学与技术丛书:窄禁带半导体物理学》主要讨论窄禁带半导体的基本物理性质,包括晶体生长,能带结构,光学性质,晶格振动,自由载流子的激发、运输和复合,杂质缺陷,表面界面,二维电子气,超晶格和量子阱,器件物理和应用等方面的基本物理现象、效应和规律以及近年来的主要研究进展。在窄禁带半导体物理研究过程中建立的新型实验方法及器件应用也在书中有所介绍。
  《半导体科学与技术丛书:窄禁带半导体物理学》可供从事红外物理与技术研究的科技人员参考,也可供从事固体物理、半导体物理研究和教学的教师以及相关专业的研究生参考。
【目录】

前言

第1章概述
1.1窄禁带半导体
1.2现代红外光电子物理
1.2.1红外材料平台
1.2.2红外物理规律
1.2.3红外功能器件
1.2.4红外技术应用
参考文献

第2章晶体
2.1晶体生长的基本理论
2.1.1引言
2.1.2晶体生长热力学问题
2.1.3晶体生长动力学问题
2.1.4相图在晶体生长中的应用
2.1.5分凝系数
2.1.6凝固过程
2.2体材料生长的主要方法
2.2.1提拉法
2.2.2布里奇曼方法
2.2.3半熔法和Te溶剂法
2.2.4固态再结晶方法
2.3液相外延薄膜的生长
2.3.1H91-xCdxTe液相外延生长条件
2.3.2液相外延的生长程序
2.3.3不同方式液相外延的比较
2.3.4影响Hg1-xCdxTe液相外延层质量的几个因素
2.4分子束外延薄膜生长
2.4.1分子束外延生长过程
……

第3章能带结构
第4章光学性质
第5章输运性质
第6章晶格振动
第7章杂质缺陷
第8章复合
第9章表面二维电子气
第10章超晶格和量子阱
第11章器件物理
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