TFT-LCD原理与设计
￥ 659.8 ￥ 59.8 九五品
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浙江杭州
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作者马群刚 著
出版社电子工业出版社
ISBN9787121145940
出版时间2011-12
版次1
装帧平装
开本16开
纸张胶版纸
页数458页
字数99999千字
定价59.8元
上书时间2024-12-21
商品详情
- 品相描述：九五品
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基本信息
书名:TFT-LCD原理与设计
定价：59.80元
作者:马群刚 著
出版社：电子工业出版社
出版日期：2011-12-01
ISBN：9787121145940
字数：749000
页码：458
版次：1
装帧：平装
开本：16开
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内容提要
本书基于TFT-LCD工厂生产的实践，科学原理与工程应用相结合。介绍了TFT-LCD的基本概念，组成材料，工艺和设计流程等；列举了高品质、低成本的设计理念和设计方法；最后在以低温多晶硅LTPS工艺为例，介绍中小尺寸，特别是便携式TFT-LCD产品的发展。对一线技术人员及电子专业的学生具有重要的参考价值。
目录
章 TFT-LCD概述1.1 TFT-LCD的发展1.1.1 TFT-LCD发展简史1.1.2 TFT-LCD的竞争与趋势1.1 TFT-LCD的基本概念1.2.1 产品相关的概念1.2.2 光学相关的概念1.3 TFT-LCD的结构与功能第二章 彩色TFT-LCD基础2.1 色彩学基础2.1.1 光与色2.1.2 光的亮度2.1.3 色的坐标2.1.4 色的温度2.1.5 TFT-LCD的彩色显示2.2 TFT器件基础2.2.1 TFT器件原理2.2.2 TFT开关的特性要求2.2.3 TFT开关特性的工艺设计2.2.4 TFT开关特性的结构设计2.3 液晶显示基础2.3.1 液晶的基本结构与特性2.3.2 液晶光学2.3.3 液晶电学2.3.4 液晶力学2.3.5 液晶的显示模式第三章 TFT-LCD材料技术3.1 玻璃基板3.1.1 玻璃基板的制造技术与发展3.1.2 玻璃基板的使用要求3.2 ITO薄膜3.3 配向膜3.3.1 配向膜的材料技术3.3.2 配向膜的特性要求3.4 液晶材料3.4.1 液晶的物理特性与分子结构设计3.4.2 液晶材料的特性要求3.5 Seal材3.6 微粒子3.6.1 球状Spacer3.6.2 纤维状Spacer和金球Spacer3.7 CF基板3.7.1 CF的材料技术3.7.2 CF的特性要求3.7.3 CF的制造技术3.8 偏光薄膜3.8.1 偏光板3.8.2 相位差板3.8.3 宽视角补偿膜3.9 电路元件3.10 背光源 3.10.1 光源3.10.2 光学膜片3.10.3 导光板第四章 TFT-LCD工艺技术4.1 阵列工艺技术4.1.1 阵列工艺流程4.1.2 洗净工艺4.1.3 Sputter成膜工艺4.1.4 CVD成膜工艺4.1.5 PR工艺4.1.6 曝光工艺4.1.7 湿刻工艺4.1.8 干刻工艺4.1.9 阵列检查工程4.2 成盒工艺技术4.2.1 配向膜成膜与配向4.2.2 Spacer散布与固着4.2.3 封框胶与银浆涂布4.2.4 液晶滴下4.2.5 真空贴合4.2.6 封框胶硬化4.2.7 玻璃切断4.2.8 偏光板贴付4.2.9 成盒工程检查4.3 模块工艺技术4.3.1 OLB工程4.3.2 PCB压接4.3.3 模块组装4.3.4 老化实验4.3.5 模块工程检查第五章 TN显示原理与设计5.1 TN显示原理5.1.1 TN显示的光透过率5.1.2 TN显示的光学原理5.1.3 TN显示的电学原理5.2 TN像素工作原理5.2.1 TN像素基本结构5.2.2 像素中的电容效应5.2.3 配线延迟效应5.2.4 灰阶电压写入与保持5.2.5 TN显示的综合效应5.3 15XGA的显示屏设计5.3.1 预设计5.3.2 阵列侧像素设计5.3.3 彩膜侧像素设计5.3.4 显示屏周边设计5.3.5 显示屏用Mark设计5.4 15XGA的基板相关设计5.4.1 基板用TEG与Mark设计5.4.2 UV Mask与UVSheet设计5.4.3 配向膜设计第六章 IPS显示原理与设计6.1 IPS显示原理6.1.1 IPS显示的光透过率6.1.2 IPS显示的光学原理6.1.3 IPS显示的电学原理6.1 IPS技术的发展6.2.1 从单畴结构到多畴结构6.2.2 有机膜IPS技术6.3 32HD显示屏设计6.3.1 S-IPS像素概要6.3.2 SA-IPS像素概要6.3.3 32HD像素设计6.3.4 32HD显示屏设计6.4 FFS显示原理与设计6.4.1 FFS的电光学原理6.4.2 FFS技术的发展6.4.3 FFS的像素设计6.5 IPS残像机理与解决方案6.5.1 IPS残像机理6.5.2 离子型不纯物分析6.5.3 残留DC分析6.5.4 线残像的机理与对策第七章 VA显示原理与设计7.1 VA显示原理7.1.1 VA显示的光透过率7.1.2 VA显示的光学原理7.1.2 VA显示的电学原理7.2 不同VA技术的发展7.2.1 MVA技术的发展7.2.2 PVA技术的发展7.2.3 CPA技术的发展7.2.4 新型VA显示技术7.3 VA的色偏机理与对策7.3.1 VA的色偏机理与评价7.3.2 色偏的改善技术7.4 46FHD显示屏设计7.4.1 46FHD像素的预设计7.4.2 46FHD像素的详细设计7.4.3 46FHD显示屏的整体设计7.4.4 46FHD显示屏拼接曝光设计第八章 TFT-LCD驱动技术与设计8.1 TFT-LCD驱动原理8.1.1 驱动原理简介8.1.2 驱动方式8.1.3 阶调增强技术 8.2 TFT-LCD电路技术8.2.1 电源电路8.2.2 时序控制电路8.2.3 数据驱动电路8.2.4 扫描驱动电路8.2.5 接口电路8.3 TFT-LCD电路设计8.3.1 电路设计概要8.3.2 电路原理图设计8.3.3 PCB版图设计8.3.4 COF设计8.3.5 伽玛设计与调节第九章 TFT-LCD结构技术与设计9.1 结构技术与设计概要9.1.1 结构技术概要9.1.2 结构设计概要9.2 OPEN CELL结构设计9.3 背光源结构设计9.3.1 后板金设计9.3.2 导光板设计9.3.3 光学膜片设计9.3.4 灯管设计9.3.5 灯管反射罩和电源线设计9.3.6 LED光源的结构设计9.4 模块结构综合设计9.4.1 组装设计9.4.2 强度设计9.4.3 散热与防尘设计9.4.4 电学设计9.4.5 光学设计9.4.6 安全性设计第十章 高品质和低成本设计10.1 面向光学规格的高品质设计10.1.1 高亮度设计10.1.2 高对比度设计10.1.3 高响应速度设计10.2 面向特殊画质的高品质设计10.2.1 闪烁机理与设计对策10.2.2 串扰机理与设计对策10.2.3 显示不均机理与设计对策10.3 合格率设计10.3.1 工程检查及相关设计10.3.2 ESD改善设计10.3.3 点缺陷修复设计10.3.4 线缺陷修复设计10.4 低成本设计10.4.1 4MASK设计10.4.2 省UV MASK设计10.4.3 低材料成本设计第十一章 LTPS TFT-LCD原理与设计11.1 LTPS TFT原理与设计11.1.1 LTPS TFT器件基础11.1.2 LTPS TFT特性设计11.1.2 LTPS TFT工艺技术11.2 LTPS TFT-LCD周边电路集成设计11.2.1 模拟输入电路集成设计11.2.2 DAC内置电路集成设计11.3 半透过型LTPS TFT-LCD原理与设计11.3.1 半透过型LTPS TFT-LCD11.3.2 半透过型TFT-LCD的反射光学设计11.3.3 半透过型TFT-LCD的偏光光学设计
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序言
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