高端光刻机像质检测技术（上下册）十品未拆膜

图书标准信息

• 作者 王向朝
• 出版社 科学出版社
• 出版时间 2021-04
• 版次 31
• ISBN 9787030673541
• 定价 248.00元
• 装帧 其他
• 开本 16开
• 纸张 胶版纸
• 页数 548页
• 字数 784千字

【内容简介】

光刻机像质检测技术是支撑光刻机整机与分系统满足光刻机分辨率、套刻精度等性能指标要求的关键技术。本书系统地介绍了光刻机像质检测技术。介绍了国际主流的光刻机像质检测技术，详细介绍了本团队提出的系列新技术，涵盖了光刻胶曝光法、空间像测量法、干涉测量法等检测技术，包括初级像质参数、波像差、偏振像差、动态像差、热像差等像质检测技术。本书介绍了这些技术的理论基础、原理、模型、算法、仿真与实验验证等内容。以光刻机原位与在线像质检测技术为主，也介绍了投影物镜的离线像质检测技术，涵盖了深紫外干式、浸液光刻机以及极紫外光刻机像质检测技术。

【目录】

（上册）

序言

前言

章  绪论

1.1  集成电路发展历程

1.2  集成电路制造工艺

1.3  光刻机技术的发展

1.3.1  光刻机曝光方式的演变

1.3.2  光刻分辨率的提升

1.4  光刻机整键技术

1.4.1  光刻机基本结构

1.4.2  光刻机主要能指标

1.4.3  光刻机的技术挑战

1.5  光刻机的成像质量与主要能指标

1.5.1  成像质量的影响因素

1.5.2  成像质量对光刻机能指标的影响

1.6  光刻机的技术进步与成像质量提升

1.6.1  光刻机成像质量与像质控制

1.6.2  像质控制与光刻机技术进步

1.7  光刻机像质检测技术

1.7.1  不同类型像质参数的检测需求

1.7.2  不同场合下像质参数的检测需求

1.7.3  像质检测的技术类型

1.7.4  光刻机像质检测技术体系

1.8  本书主要内容

参文献

第2章  光刻成像模型

2.1  光刻成像理论

2.1.1  标量衍射理论

2.1.2  矢量衍射理论

2.2  标量光刻成像模型

2.2.1  相干成像模型

2.2.2  部分相干成像模型

2.3  矢量光刻成像模型

2.3.1  建模基础

2.3.2  厚掩模近场模型

2.3.3  物方矢量场远场衍射模型

2.3.4  入瞳球面到出瞳球面的映射关系

2.3.5  像方矢量场会聚成像模型

2.4  投影物镜热效应模型

2.4.1  快速热效应模型

2.4.2  严格热效应模型

参文献

第3章  初级像质参数检测

3.1  初级像质参数对光刻成像位置的影响

3.1.1  垂轴像质参数的影响

3.1.2  轴向像质参数的影响

3.2  垂轴像质检测技术

3.3  轴向像质检测技术

3.3.1  fem技术

3.3.2  focal技术

3.3.3  基于神经网络的检测技术

3.3.4  基于双线线宽变化量的检测技术

3.3.5  其他检测技术

3.4  垂轴与轴向像质同步检测技术

3.4.1  tis技术

3.4.2  镜像 focal技术

3.5  初级像质参数检测技术的应用拓展

3.5.1  焦深检测

3.5.2  硅片表面不度检测

3.5.3  套刻精度检测

3.5.4  像质参数热漂移检测

参文献

第4章  基于光刻胶曝光的波像差检测

4.1  波像差对光刻成像质量的影响

4.1.1  奇像差对光刻成像质量的影响

4.1.2  偶像差对光刻成像质量的影响

4.1.3  波像差对套刻精度的影响

4.2  光束干涉检测

4.2.1  双光束干涉检测

4.2.2  三光束干涉检测

4.2.3  多光束干涉检测

4.3  像面曝光检测

4.3.1  单一照明条件检测

4.3.2  多照明条件检测

4.4  多离焦面曝光检测

4.4.1  单一照明条件检测

4.4.2  多照明条件检测

参文献

第5章  基于空间像测量的波像差检测

5.1  基于空间像位置偏移量的检测

5.1.1  二元光栅标记检测

5.1.2  相移掩模标记检测

5.1.3  混合标记检测

5.2  基于空间像线宽不对称度的检测

5.2.1  双线标记检测

5.2.2  brick wall标记检测

5.3  基于空间像峰值光强差的检测

5.3.1  相移掩模标记检测

5.3.2  二元双缝图形标记检测

5.4  基于空间像傅里叶分析的检测

5.4.1  检测

5.4.2  实验

5.5  基于空间像解析线模型的检测

5.5.1  检测

5.5.2  实验

5.5.3  技术优化

参文献

第6章  基于空间像主成分分析的波像差检测

6.1  amai-pca技术

6.1.1  检测

6.1.2  与实验

6.1.3  工程应用技术

6.2  高精度波像差检测方

6.2.1  多级bbd采样

6.2.2  three-space标记检测

6.2.3  阶梯相位环标记检测

6.3  高阶波像差检测方

6.3.1  多照明设置

6.3.2  环形照明检测

6.3.3  六方向孤立空标记检测

6.3.4  二阶模型检测

6.4  浸液光刻机投影物镜波像差检测

6.4.1  基于矢量成像模型的波像差检测

6.4.2  基于八方向孤立空标记的高阶波像差检测

6.4.3  基于线采样的波像差快速检测

6.4.4  基于多偏振照明条件的高精度波像差检测

参文献

（下册）

第7章  基于原位pmi的波像差检测

第8章  偏振像差检测

第9章  极紫外光刻投影物镜波像差检测

0章  像质检测关键依托技术

后记