现代晶体学 3 晶体生长 9787312043529
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作者(俄罗斯)A·A·契尔诺夫(Chernov,A.A.)
出版社中国科学技术大学出版社
ISBN9787312043529
出版时间2019-03
装帧平装
开本16开
定价88元
货号1201854744
上书时间2024-07-05
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作者简介
吴自勤，中国科学技术大学教授，博士生导师，靠前凝聚态物理、电子显微学和薄膜生长领域的有名学者。曾任中国物理学会《物理》杂志主编、《电子显微学报》副主编，是中国电子显微镜学会创始人之一，曾任中国电子显微镜学会常务理事、材料物理专业委员会主任。承担了多项国家自然科学基金项目，在靠前外学术刊物上发表论文200余篇。获中国科学院自然科学奖一等奖、安徽省高校科学技术进步奖、中国分析测试学会科学技术奖和国防科工委科技进步奖。编撰出版了《薄膜生长》《固体物理实验方法》《微分析物理及其应用》《分形原理和应用》等专著，翻译出版了《材料的透射电子显微学与衍射学》《现代晶体学（共4卷）》。
目录
译者的话
序
前言
章平衡
1.1相平衡
1.2表面能和周期性键链
1.3表面的原子结构
1.4考虑表面能的相平衡晶体的平衡外形
第2章成核和外延
2.1均匀成核
2.2非均匀成核
2.3外延
第3章生长机制
3.1晶体的垂直生长和逐层生长
3.2不同相中的逐层生长
3.3层源和面生长速率
3.4层状生长表面的形貌
第4章杂质
4.1杂质对生长过程的影响
4.2杂质的俘获:分类和热力学
4.3杂质的俘获:动力学
第5章质量和热输运生长外形及其稳定性
5.1结晶中质量和热量的传递
5.2生长外形
5.3生长外形的稳定性
第6章缺陷的产生
6.1夹杂物
6.2位错内应力晶粒间界
第7章团块结晶学
7.1凝固动力学和晶粒尺寸
7.2几何选择和铸锭的形成
7.3热和质量的传递
7.4成熟(聚结)
7.5非金属工业结晶学原理
第8章气相生长
8.1概述
8.2气相结晶的物理化学基础
8.3物理气相淀积
8.4化学气相淀积(CVD)
8.5外界辅助的气相生长
8.6通过液相区的气相结晶
第9章溶液生长
9.1溶液生长晶体的物理化学基础
9.2低温水溶液生长
9.3水热溶液中的生长和合成
9.4高温溶液生长(熔盐生长)
0章熔体生长
10.1熔体单晶生长的物理化学基础
10.2熔体生长单晶的主要方法
10.3熔体生长晶体的缺陷和晶体实际结构的控制方法
参考文献
参考书刊
译后记
内容摘要
本书是B·K·伐因斯坦（主编）、A·A·契尔诺夫和L·A·舒瓦洛夫主持编写的《现代晶体学》4卷本中的第3卷，本书的主要作者是A·A·契尔诺夫，参加编写的还有其他5位专家。本书由结晶过程和晶体生长两大部分组成。部分包含的内容有：平衡、成核和外延、生长机制、杂质、质量和热输运、生长外形及其稳定性、缺陷的产生和团块结晶等；第二部分介绍气相生长、溶液生长和熔体生长。本书可作为固体物理、材料科学、晶体学、金属学、矿物学、化学等专业的教师、研究生、大学生的教材或教学参考书，并可供有关科技人员参考。
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一本关于晶体生长基本概念和技术的名著，书中对晶体生长的理论和实践进行了系统而全面的叙述。
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