TFT LCD面板的驱动与设计

图书标准信息

• 作者 戴亚翔 著
• 出版社 清华大学出版社
• 出版时间 2008-11
• 版次 1
• ISBN 9787302179931
• 定价 30.00元
• 装帧 平装
• 开本 16开
• 纸张 胶版纸
• 页数 203页
• 字数 264千字
• 正文语种 简体中文
• 丛书 新材料及在高技术中的应用丛书

【内容简介】

　　《TFTLCD面板的驱动与设计》是有关TFTLCD技术参考书，介绍了TFTLCD的基本知识、操作原理及设计时的实际应用，TFTLCD面板的驱动，TFTLCD面板的设计实例，还探讨了TFTLCD的未来发展。

【目录】

第1章了解TFTLCD
1.1了解显示器
1.1.1像素(pixel，即pictureelement)
1.1.2对比度(contrast)
1.1.3灰阶(graylevel)
1.1.4颜色(color)
1.2液晶显示器(liquidcrystaldisplay，LCD)
1.2.1光阀的概念
1.2.2如何利用LCD制成光阀
1.2.3如何控制液晶光阀
1.2.4液晶电容
1.2.5进一步认识液晶
1.3了解薄膜晶体管(thinfilmtransistor，TFT)
1.3.1TFT的结构与工作原理
1.3.2TFT的电流-电压特性
1.3.3TFT与MOSFET的比较
1.4了解TFTLCD
1.4.1TFTLCD架构
1.4.2彩色TFTLCD的亚像素
1.4.3TFTLCD的比喻
1.5名词解释
第1章练习

第2章TFTLCD的工作原理
2.1TFTLCD的工作方式
2.2极性反转(polarityinversion)
2.2.1什么叫做“极性反转”
2.2.2为什么可以“极性反转”
2.2.3驱动电压的均方根(rootmeansquare，RMS)
2.2.4为什么必须要有“极性反转”
2.2.5像素阵列极性反转的方式
2.3充电(charging)
2.3.1充电与放电电流
2.3.2充电时间
2.3.3电压范围
2.3.4预充电(pre-charge)
2.4电位保持(holding)
2.4.1漏电的路径
2.4.2储存电容(storagecapacitor)
2.4.3储存电容的参考电压
2.4.4点缺陷型漏电
2.5电容耦合效应(coupling)
2.5.1电容耦合的原理
2.5.2像素中的电容
2.5.3扫描线的电容耦合效应
2.5.4数据线的电容耦合效应
2.6信号延迟(delay)
2.6.1信号延迟的原理
2.6.2信号延迟的计算方法
2.6.3扫描线上的信号延迟
2.6.4数据线上的信号延迟
2.6.5共电极的信号延迟
2.7综合效应
2.7.1充电与电荷保持
2.7.2充电与电容耦合
2.7.3充电与信号延迟
2.7.4电荷保持与电容耦合
2.7.5电容耦合与信号延迟
第2章练习

第3章面板设计实例
3.1从产品规格开始
3.1.1认识TFTLCD的产品规格
3.1.2专业领域的整合
3.1.3产品规格的协调制定
3.1.4TFT面板设计相关的专业规格
3.2TFTLCD像素排列
3.2.1像素完全相同与最坏情况设计(worstcasedesign)
3.2.2初始设计
3.2.3初始像素布局
3.2.4布局后模拟
3.2.5像素设计实例
3.3像素阵列之外
3.3.1扫描线与数据线布线
3.3.2下板共电极布线
3.3.3共电极金胶点与共电极电源布线
3.3.4对准标示
3.3.5测试键(testkeys)
3.3.6电荷分享预充电设计
3.3.7静电防治、阵列测试与激光修补设计
3.3.8其他设计项目

第4章TFTLCD的驱动系统
4.1驱动系统概述
4.1.1时序控制电路(timingcontroller)
4.1.2扫描驱动电路(scandriver)
4.1.3数据驱动电路(datadriver)
4.1.4共电极参考电压源
4.1.5电压源转换电路
4.1.6Γ(Gamma)校正参考电压
4.2扫描驱动电路
4.2.1扫描驱动电路的基本功能区块
4.2.2扫描驱动电路子系统概观
4.3数据驱动电路
4.3.1数据驱动电路的基本功能区块
4.3.2厂校正参考电压
4.3.3数据传输界面
4.3.4数据驱动电路子系统概述
4.4时序控制电路
4.4.1视频数据处理
4.4.2电荷分享(chargcsharing)节省电源
4.4.3响应时间补偿(responsetimecornpensation，RTC)
第4章练习

第5章设计的现实考量
5.1静电防治设计
5.1.1静电破坏
5.1.2TFT的静电防治设计
5.1.3驱动负载的增加
5.1.4静电保护设计的方式与有效阶段
5.2阵列测试设计
5.2.1阵列测试的时机与目的
5.2.2阵列电性测试的方式
5.3激光修补设计
5.3.1激光修补的目的
5.3.2激光修补的方式
5.4布局考量
5.4.1TFT的布局方式
5.4.2像素布局设计
5.4.3阵列外布局设计
5.4.4面板接合光刻掩模设计
5.4.5基板上面板放置与其掩模接合设计
5.4.6上下基板对位设计
5.4.7布局检查
5.5制程与环境的变动
5.5.1电极线宽定义及对准
5.5.2薄膜厚度
5.5.3环境温度变化
5.6显示画质不良的分析
5.6.1点缺陷与线缺陷
5.6.2斑驳
5.6.3串扰(cross-talk)
5.6.4闪烁(flicker)与直流残留(DCresidue)
5.6.5渐层(shading)
5.6.6区块(blocking)
5.6.7不良现象的原因分析
第5章练习

第6章面板设计的进一步发展
6.1低溫多晶硅型TFT(LTPSTFT)
6.1.1元件结构及制程
6.1.2栅极与半导体层的位置关系
6.1.3激光退火
6.1.4离子注入
6.1.5TopITO架构
6.2有机电致发光二极管(OLED)
6.2.1基本元件发光结构
6.2.2像素等效电路
6.2.3TFTOLED面板的设计与驱动
第一版后记