红外光学材料（第2版）

图书标准信息

• 作者 余怀之 著
• 出版社 国防工业出版社
• 出版时间 2015-02
• 版次 2
• ISBN 9787118099676
• 定价 139.00元
• 装帧 精装
• 开本 16开
• 纸张 胶版纸
• 页数 439页
• 字数 619千字
• 正文语种 简体中文

【内容简介】

　　《红外光学材料（第2版）》对红外光学材料的光学、力学和热学性质，红外光学材料的各种制备工艺作了详细的论述，对于窗口和整流罩应用的CVD金刚石作了简单的讨论，最后对红外光学窗口和整流罩使用中必不可少的增透膜和保护膜作了较详细的论述。从而展现了目前红外光学材料在尺寸和性能上所达到的水平。
　　《红外光学材料（第2版）》可作为从事红外光学材料研制及红外光电传感系统设计和使用的工程技术人员参考，也可作为大专院校相关专业学生的参考书。

【目录】

第1章红外光学材料基础
1.1引言
1.2大气窗口
1.3黑体辐射——普朗克辐射定律
1.4波动方程和光学常数
1.5反射和折射
1.6薄膜光学
1.7折射指数和色散
1.8在各向异性介质中光的传播——双折射
1.9透明介质中光的散射
1.10透明介质热辐射的发射率
1.11断裂强度和断裂韧性
1.12断裂强度的统计分析
1.13抗热冲击品质因子
1.13.1压力诱导应力
1.13.2热诱导应力
1.13.3品质因子
1.14激光窗口的光畸变
参考文献

第2章红外光学材料的光学性质
2.1引言
2.2反射
2.3透过率和吸收系数及与温度的关系
2.3.1概述
2.3.2红外光学材料的透射波段
2.3.3Ge和Si
2.3.4GaAs和GaP
2.3.5蓝宝石和氧化铝多晶.
2.3.6氧化物多晶光学陶瓷——MgAl204、MgO、Y203、石英和YAG
2.3.7ZnS和ZnSe
2.3.8CVDSiC和CVDSi2N4
2.3.9MgF2和CaF2
2.3.10硫系化合物玻璃
2.4折射指数、色散和折射指数与温度的关系
2.4.1Ge和Si
2.4.2GaAs和GaP
2.4.3氧化物光学陶瓷
2.4.4CVDZnS和CVDZnSe
2.4.5?-SiC和0——Si3N4
2.4.6MgF2和CaF2
2.4.7硫系玻璃
2.5散射
2.6发射率
2.7红外光学材料的微波透射性质
参考文献

第3章红外光学材料的力学与热学性质
3.1引言
3.2红外光学材料力学和热学性质
3.2.1弹性模量E和泊松比v
3.2.2热导率
3.2.3热膨胀系数
3.3红外光学材料的硬度及其影响因素
3.3.1硬度测试
3.3.2温度对硬度的影响
3.3.3晶粒尺寸的影响
3.3.4压力的影响.
3.3.5形成固溶体改善硬度
3.3.6化学键对硬度的影响
3.3.7硬度和材料其他参数的关系
3.4红外光学材料断裂强度及其影响因素
3.4.1常用的强度测试方法
3.4.2陶瓷材料强度的影响因素
3.5蓝宝石单晶的高温强度
3.5.1温度对蓝宝石强度的影响
3.5.2蓝宝石高温强度的改善
3.6红外光学材料的断裂韧性
3.7红外光学材料抗热冲击品质因子
3.8固体粒子对红外光学元件表面的冲击损伤
3.9红外光学元件表面的雨蚀
3.10激光窗口用光学材料
参考文献

第4章红外光学材料的制备方法和工艺
4.1引言
4.2热压工艺
4.2.1热压的工艺原理
4.2.2ZnS和.ZnSe的热压
4.2.3热压制备其他光学材料
4.3烧结、热压烧结和热等静压法
4.3.1烧结、热等静压制备ZnS
4.3.2尖晶石（MgAl204）的制备
4.3.3氮氧化铝（A10N）晶体
4.4纳米和亚微米氧化物透明陶瓷的制备
4.4.1透明A1203哆晶陶瓷
4.4.2Nd：YAG
4.4.3纳米MgO和Y203
4.5熔体定向凝固法
4.5.1定向凝固的热流及温度分布
4.5.2热交换法（}tEM）
4.5.3梯度凝固法（GSM）
4.5.4垂直梯度凝固法（VGF）
4.5.5泡生法（kyropoulos法）
4.5.6水平法生长蓝宝石
4.6导模法
4.6.1导模法生长原理
4.6.2导模法工艺
4.7直拉生长法（（~'zochralski法）
4.7.1熔体生长的基本原理
4.7.2锗和硅单晶生长
4.7.3Ⅲ一V族化合物半导体GaAs和GaP
参考文献

第5章化学气相沉积制备红外光学材料
5.1引言
5.2化学气相沉积基础
5.2.1概述
5.2.2温度的影响
5.2.3反应剂分子向衬底表面的传输
5.2.4压力的影响
5.2.5反应剂气体流动状态
5.3CVDZnS和CVDZnSe
5.4CVDB-SiC
5.5CVDGaP
5.6CVDSi2N4
参考文献

第6章金刚石光学材料
6.1概述
6.2CVD金刚石性质
6.2.1CVD金刚石的光学性能
6.2.2CVD金刚石的热学性质
6.2.3CVD金刚石的力学性质
6.2.4金刚石的氧化和保护
6.3CVD金刚石生长机理
6.3.1表面激活
6.3.2生长机制
6.3.3缺陷的产生
6.3.4原子H的输送
6.4CVD金刚石生长工艺
6.4.1M'WCVD金刚石合成
6.4.2直流电弧放电等离子体合成金刚石
6.4.3燃烧火焰喷射合成金刚石
6.5金刚石涂层
6.5.1锗上的金刚石涂层
6.5.2ZnS上的金刚石膜.
6.6CVD金刚石表面加工
6.6.1激光束平滑技术
6.6.2热金属研磨金刚石表面的热化学抛光技术
6.6.3等离子体腐蚀抛光
参考文献

第7章增透膜和保护膜
7.1引言
7.2红外光学材料的宽带增透膜
7.3薄膜制备方法
7.4表面凸起结构的减反射
7.5光学元件表面保护
7.6类金刚石碳（DLC）膜
7.7GeC膜
7.7.1GeC膜的制备
7.7.2GeC膜的光学性质
7.7.3GeC膜的力学性能
7.8BP和GaP膜.
7.8.1BP膜的制备
7.8.2BP膜的结构
7.8.3BP膜的光学性质
7.8.4BP膜的力学性质
7.9雨蚀保护
7.10沙蚀保护
7.11其他硬质保护膜
7.12透明导电膜
7.12.1金属网格滤波器
7.12.2导电衬底和导电膜
7.12.3导电网格设计
参考文献