等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用
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作者张海洋等编著
出版社清华大学出版社
ISBN9787302614395
出版时间2023-01
版次2
装帧平装
开本16开
纸张胶版纸
页数436页
字数698千字
定价149元
货号SC:9787302614395
上书时间2024-10-07
商品详情
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作者简介:
张海洋，休斯敦大学化工系博士。现任中芯国际集成电路制造（上海）有限公司技术研发中心蚀刻部门主管，教授级高级工程师,享受国务院政府特殊津贴。专注于优选集成电路制造中成套等离子体蚀刻工艺研发以及国产蚀刻机台在高端逻辑制程中的验证。入选国家万人计划领军人才、科技部中青年科技创新领军人才、上海市优选技术带头人计划。持有半导体制造领域国际专利八十余项，指导发表国际会议文章6０篇。
主编推荐:
张海洋等作者有着深厚的学术根基以及丰富的产业经验，其带领的团队是多年来在很好半导体工厂一线工作的科研人员，掌握了业界领先的制造工艺。他们处理实际问题的经验以及从产业出发的独特技术视角，将给读者带来启发和帮助。本书理论与实际相结合，紧跟国际技术前沿，填补国内外相关图书空白。
内容简介:
本书共10章，基于公开文献全方位地介绍了低温等离子体蚀刻技术在半导体产业中的应用及潜在发展方向。以低温等离子体蚀刻技术发展史开篇，对传统及已报道的优选等离子体蚀刻技术的基本原理做相应介绍，随后是占据了本书近半篇幅的逻辑和存储器产品中等离子体蚀刻工艺的深度解读。此外，还详述了逻辑产品可靠性及良率与蚀刻工艺的内在联系，聚焦了特殊气体及特殊材料在等离子体蚀刻方面的潜在应用。最后是优选过程控制技术在等离子体蚀刻应用方面的重要性及展望，以及虚拟制造在集成电路发展中的应用。
本书可以作为从事等离子体蚀刻工艺研究和应用的研究生和工程技术人员的参考书籍。
目录:
第1章低温等离子体蚀刻技术发展史
1.1绚丽多彩的等离子体世界
1.2低温等离子体的应用领域
1.3低温等离子体蚀刻技术混沌之初
1.4低温等离子体蚀刻技术世纪初的三国演义
1.5三维逻辑和存储器时代低温等离子体蚀刻技术的变迁
1.6华人在低温等离子体蚀刻机台发展中的很好贡献
1.7未来低温等离子体蚀刻技术展望
参考文献
第2章低温等离子体蚀刻简介
2.1等离子体的基本概念
2.2低温等离子体蚀刻基本概念
2.3等离子体蚀刻机台简介
2.3.1电容耦合等离子体机台
2.3.2电感耦合等离子体机台
2.3.3电子回旋共振等离子体机台
2.3.4远距等离子体蚀刻机台
2.3.5等离子体边缘蚀刻机台
2.4等离子体优选蚀刻技术简介
2.4.1等离子体脉冲蚀刻技术
2.4.2原子层蚀刻技术
2.4.3中性粒子束蚀刻技术
2.4.4带状束方向性蚀刻技术
2.4.5气体团簇离子束蚀刻技术
参考文献
第3章等离子体蚀刻在逻辑集成电路制造中的应用
3.1逻辑集成电路的发展
3.2浅沟槽隔离蚀刻
3.2.1浅沟槽隔离的背景和概况
3.2.2浅沟槽隔离蚀刻的发展
3.2.3膜层结构对浅沟槽隔离蚀刻的影响
3.2.4浅沟槽隔离蚀刻参数影响
3.2.5浅沟槽隔离蚀刻的重要物理参数及对器件性能的影响
3.2.6鳍式场效应晶体管中鳍(Fin)的自对准双图形的蚀刻
3.2.7鳍式场效应晶体管中的物理性能
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