半导体锗材料与器件\[比]C.克莱著 屠海令译
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全新
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作者(比)C.克莱 E.西蒙
出版社冶金工业出版社
ISBN9787502451752
出版时间2010-05
版次1
装帧平装
开本16开
纸张胶版纸
字数467千字
定价70元
货号SC:9787502451752
上书时间2024-11-20
商品详情
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内容简介:
锗是研发晶体管技术的基础性半导体材料,近年来,由于其在微纳电子学领域的潜在优势,半导体锗材料又重新受到人们的关注。
本书是全面深入探讨这一技术领域的首部著作,其内容涵盖了半导体锗技术研究的近期新进展,阐述了锗材料科学、器件物理和加工工艺的基本原理。作者系来自科学界及工业界从事该领域前沿研究的靠前知名专家。
本书还介绍了锗在光电子学、探测器以及太阳能电池领域的工业应用。它对从事半导体器件与材料物理研究的科技人员、高等院校材料专业的师生以及工业和研究领域的工程师们而言,是一部必不可少的参考书,无论是专家还是初学者都将从本书中受益。
目录:
0 导论
0.1 引言
0.2 历史沿革和重大事件
0.3 锗用作新型超大规模集成电路(ULSI)衬底:机遇与挑战
0.4 本书梗概
参考文献
1 锗材料
1.1 引言
1.2 体锗片的制备
1.2.1 锗原材料:供应及生产流程
1.2.2 锗晶体生长
1.2.3 锗片制造
1.3 GOI衬底
1.3.1 背面研磨SOI
1.3.2 以薄层转移技术制备GOI衬底
1.4 结j沦
参考文献
2 锗中长入缺陷
2.1 引言
2.2 锗中本征点缺陷
2.2.1 
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