光学元件磁流变抛光理论与关键技术9787118129977
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作者石峰，宋辞著
出版社国防工业出版社
ISBN9787118129977
出版时间2023-07
装帧精装
开本16开
定价128元
货号13398325
上书时间2024-12-30
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目录
第1章绪论
1.1研究背景和意义
1.1.1高精度光学镜面的需求
1.1.2高精度光学镜百抛光方法
1.1.3本书研究的意义
1.2磁流变抛光国内外研究现状
1.2.1磁流变抛光技术发展过程
1.2.2磁流变批光技术国内外发展现状
1.2.3磁流变抛光关健技术与研究热点
1.3主要研究内容
第2章磁流变抛光系统
2.1计算机控制光学表面成形原理
2.1.1计算机控制光学表面成形的理论基础
2.1.2计算机控制光学表面成形工艺对磁流变抛光系统的茶本要求
2.2KDMRF-1O00F系统组成与性能分析
2.2.1系统组减及主要性能
2.2.2多轴运动系统性能分析
2.2.3循环控制系统性能分析
2.2.4磁流变液配制与性能分析
第3章磁流变抛光区域流体动力学分析与计算
3.1Bingham流体动力学基本方程
……
内容摘要
本书介绍了光学元件磁流变抛光理论与关键工艺，尤其重点介绍了离轴非球面光学元件磁流变抛光关键技术。第一章～第六章侧重介绍磁流变抛光的理论和工艺研究，主要针对高精度光学镜面磁流变抛光过程中的去除函数多参数模型、表面与亚表面质量控制、驻留时间高精度求解与实现、修形工艺优化方法等关键问题进行深入研究和实验验证；第七章～第十二章以离轴非球面光学零件的高精高效制造为需求牵引，针对离轴非球面磁流变抛光过程中的关键理论和工艺问题开展研究，旨在实现面形误差和特征量参数双重约束条件下的离轴非球面光学零件的磁流变抛光，形成基于磁流变抛光技术的加工工艺路线，从而进一步提高我国离轴非球面光学零件的制造水平。
精彩内容
本书介绍了光学元件磁流变抛光理论与关键工艺，尤其重点介绍了离轴非球面光学元件磁流变抛光关键技术。第一章～第六章侧重介绍磁流变抛光的理论和工艺研究，主要针对高精度光学镜面磁流变抛光过程中的去除函数多参数模型、表面与亚表面质量控制、驻留时间高精度求解与实现、修形工艺优化方法等关键问题进行深入研究和实验验证；第七章～第十二章以离轴非球面光学零件的高精高效制造为需求牵引，针对离轴非球面磁流变抛光过程中的关键理论和工艺问题开展研究，旨在实现面形误差和特征量参数双重约束条件下的离轴非球面光学零件的磁流变抛光，形成基于磁流变抛光技术的加工工艺路线，从而进一步提高我国离轴非球面光学零件的制造水平。
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