微纳米加工技术及其应用(第4版)
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作者崔铮
出版社高等教育出版社
ISBN9787040543025
出版时间2020-09
装帧精装
开本16开
定价129元
货号1202133127
上书时间2024-08-29
商品详情
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目录
章绪论
1.1微纳来技术与微纳米加工技术
1.2微纳米加工的基本过程与分类
1.3本书的内容与结构
参考文献
第2章光学曝光技术
2.1引言
2.2光学曝光方式与原理
2.2.1掩模对准式曝光
2.2.2掩模投影式曝光
2.3光学曝光的工艺过程
2.4光刻胶的特性
2.4.1光刻胶的一般特性
2.4.2正性光刻胶与负性光刻胶的比较
2.4.3化学放大胶
2.4.4特殊光刻胶
……
内容摘要
本书在《微纳米加工技术及其应用》(第三版)的基础上，做了部分修订，增加了微纳米加工技术在过去6年中的一些近期新进展，特别是大规模集成电路光刻技术的进步。第四版仍保持第三版的风格，着重对各种加工技术的原理进行阐述，列举基本的工艺步骤，说明各种工艺条件的由来，并注意给出典型工艺参数；充分分析了各种技术的优缺点，包括每种加工技术的能力与极限及在应用过程中的注意事项。全书强调实用，避免烦琐的数学分析，而以大量图例加以说明:既注重基础知识又兼顾微纳米加工领域近年来的近期新进展。在应用方面主要介绍了微纳米加工技术在超大规模集成电路加工、纳米电子学、高密度磁存储技术、光电子技术、微机电系统技术、生物芯片技术与纳米技术中的典型应用。每一章都列举了大量相关参考文献，供进一步发掘详细信息与深入研究。本书无论对初次涉足这一领域的大专院校的本科生或研究生，还是已经有一定工作经验的专业科技人员，都具有很好的参考价值。
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