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保正版！光刻机像质检测技术(上册)9787030673541科学出版社王向朝 等

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作者王向朝 等

出版社科学出版社

ISBN9787030673541

出版时间2021-03

装帧精装

开本16开

定价248元

货号1202326672

上书时间2023-09-23

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品相描述：全新
商品描述
目录
（上册）

序言

前言

章  绪论

1.1  集成电路发展历程

1.2  集成电路制造工艺

1.3  光刻机技术的发展

1.3.1  光刻机曝光方式的演变

1.3.2  光刻分辨率的提升

1.4  光刻机整机关键技术

1.4.1  光刻机基本结构

1.4.2  光刻机主要性能指标

1.4.3  光刻机的技术挑战

1.5  光刻机的成像质量与主要性能指标

1.5.1  成像质量的影响因素

1.5.2  成像质量对光刻机性能指标的影响

1.6  光刻机的技术进步与成像质量提升

1.6.1  光刻机成像质量与像质控制

1.6.2  像质控制与光刻机技术进步

1.7  光刻机像质检测技术

1.7.1  不同类型像质参数的检测需求

1.7.2  不同场合下像质参数的检测需求

1.7.3  像质检测的技术类型

1.7.4  光刻机像质检测技术体系

1.8  本书主要内容

参考文献

第2章  光刻成像模型

2.1  光刻成像理论

2.1.1  标量衍射理论

2.1.2  矢量衍射理论

2.2  标量光刻成像模型

2.2.1  相干成像模型

2.2.2  部分相干成像模型

2.3  矢量光刻成像模型

2.3.1  建模基础

2.3.2  厚掩模近场模型

2.3.3  物方矢量场远场衍射模型

2.3.4  入瞳球面到出瞳球面的映射关系

2.3.5  像方矢量场会聚成像模型

2.4  投影物镜热效应模型

2.4.1  快速热效应模型

2.4.2  严格热效应模型

参考文献

第3章  初级像质参数检测

3.1  初级像质参数对光刻成像位置的影响

3.1.1  垂轴像质参数的影响

3.1.2  轴向像质参数的影响

3.2  垂轴像质检测技术

3.3  轴向像质检测技术

3.3.1  FEM技术

3.3.2  FOCAL技术

3.3.3  基于神经网络的检测技术

3.3.4  基于双线线宽变化量的检测技术

3.3.5  其他检测技术

3.4  垂轴与轴向像质同步检测技术

3.4.1  TIS技术

3.4.2  镜像 FOCAL技术

3.5  初级像质参数检测技术的应用拓展

3.5.1  焦深检测

3.5.2  硅片表面不平度检测

3.5.3  套刻精度检测

3.5.4  像质参数热漂移检测

参考文献

第4章  基于光刻胶曝光的波像差检测

4.1  波像差对光刻成像质量的影响

4.1.1  奇像差对光刻成像质量的影响

4.1.2  偶像差对光刻成像质量的影响

4.1.3  波像差对套刻精度的影响

4.2  光束干涉检测法

4.2.1  双光束干涉检测

4.2.2  三光束干涉检测

4.2.3  多光束干涉检测

4.3  像面曝光检测法

4.3.1  单一照明条件检测

4.3.2  多照明条件检测

4.4  多离焦面曝光检测法

4.4.1  单一照明条件检测

4.4.2  多照明条件检测

参考文献

第5章  基于空间像测量的波像差检测

5.1  基于空间像位置偏移量的检测

5.1.1  二元光栅标记检测法

5.1.2  相移掩模标记检测法

5.1.3  混合标记检测法

5.2  基于空间像线宽不对称度的检测

5.2.1  双线标记检测法

5.2.2  Brick Wall标记检测法

5.3  基于空间像峰值光强差的检测

5.3.1  相移掩模标记检测法

5.3.2  二元双缝图形标记检测法

5.4  基于空间像傅里叶分析的检测

5.4.1  检测原理

5.4.2  仿真实验

5.5  基于空间像解析线性模型的检测

5.5.1  检测原理

5.5.2  仿真实验

5.5.3  技术优化

参考文献

第6章  基于空间像主成分分析的波像差检测

6.1  AMAI-PCA技术

6.1.1  检测原理

6.1.2  仿真与实验

6.1.3  工程应用技术

6.2  高精度波像差检测方法

6.2.1  多级BBD采样法

6.2.2  Three-Space标记检测法

6.2.3  阶梯相位环标记检测法

6.3  高阶波像差检测方法

6.3.1  多照明设置法

6.3.2  环形照明检测法

6.3.3  六方向孤立空标记检测法

6.3.4  二阶模型检测法

6.4  浸液光刻机投影物镜波像差检测

6.4.1  基于矢量成像模型的波像差检测

6.4.2  基于八方向孤立空标记的高阶波像差检测

6.4.3  基于线性采样的波像差快速检测

6.4.4  基于多偏振照明条件的高精度波像差检测

参考文献

（下册）

第7章  基于原位PMI的波像差检测

第8章  偏振像差检测

第9章  极紫外光刻投影物镜波像差检测

0章  像质检测关键依托技术

后记

内容摘要
光刻机像质检测技术是支撑光刻机整机与分系统满足光刻机分辨率、套刻精度等性能指标要求的关键技术。本书系统地介绍了光刻机像质检测技术。介绍了靠前主流的光刻机像质检测技术，详细介绍了本团队提出的系列新技术，涵盖了光刻胶曝光法、空间像测量法、干涉测量法等检测技术，包括初级像质参数、波像差偏振像差、动态像差、热像差等像质检测技术。本书介绍了这些技术的理论基础、原理、模型、算法、仿真与实验验证等内容。以光刻机原位与在线像质检测技术为主，也介绍了投影物镜的离线像质检测技术，涵盖了深紫外干式、浸液光刻机以及极紫外光刻机像质检测技术。本书适用于从事光刻机研究与应用的科研与工程技术人员，可作为高等院校、科研院所相关领域的科研人员、教师、研究生与本科生的参考书。同时，可为现代光学精密检测、光学成像等领域的科技人员、研究生和高等院校的本科生提供参考。

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