平板显示技术基础王丽娟北京大学出版社9787301221112

第1章 平板显示技术简介
 1．1 显示技术的发展
 1. 2 显示器的种类
 1. 3 显示器件的性能对比
 1. 4 显示器的性能参数
 本章小结
 本章
第2章 液晶显示器基础
 2．1 液晶的特点
 2. 2 液晶的种类
 2．3 液晶的物理性质
 2. 4 液晶的电光效应
 2．5 液晶显示器的种类
 2. 6 TN型液晶显示器的显示原理
 2．7 超扭曲向列相液晶显示器
 本章小结
 本章
第3章 液晶显示器的广视角技术
 3．1 视角产生的原因
 3．2 广视角技术简介
 3．3 膜补偿技术
 3．4 MVA技术的显示原理
 3．5 PVA技术的显示原理
 3. 6 ASV技术的显示原理
 3. 7 IPS技术的显示原理
 3. 8 FFS技术的显示原理
 3．9 OCB技术
 本章小结
 本毒
第4章 液晶显示器的制屏和模块工艺技术
 4．1 制屏工艺简介
 4. 2 PI取向工艺
 4．3 ODF工艺
 4．4 传统的液晶注入工艺
 4．5 切割工艺
 4．6 贴片工艺
 4．7 液晶显示器的模块工艺简介
 4．8 COG工艺
 4．9 COF工艺
 本章小结
 本章
第5章 有源矩阵液晶显示器的结构
 5．1 有源矩阵液晶显示器的结构
 5．2 CCFL背光源
 5．3 LED背光源
 5．4 玻璃基板
 5．5 彩膜
 5．6 阵列的单元像素
 5．7 液晶显示器的驱动原理
 本章小结
 本章
第6章 薄膜晶体管的工作原理
 6．1 薄膜晶体管的半导体基础
 6. 2 MOS场效应晶体管
 6．3 薄膜晶体管的工作原理
 6．4 薄膜晶体管的直流特性
 6．5 薄膜晶体管的主要参数
 本章小结
 本章
第7章 薄膜晶体管的结构与设计
 7. 1 a—si：H TFT结构概述
 7．2 背沟道刻蚀结构的a—Si：H TFT
 7．3 背沟道保护型结构的a—Si：H TFT
 7．4 其他结构的a—si:H TFT
 7．5 薄膜晶体管阵列的设计
 本章小结
 本章
第8章 液晶显示器的阵列工艺技术
 8．1 阵列工艺概述
 8．2 清洗工艺
 8．3 溅射工艺
 8．4 CVD工艺
 8．5 光刻工艺
 8．6 干刻工艺
 8．7 湿刻工艺
 8．8 TFT阵列工艺中常见缺陷
 本章小结
 本章
第9章 多种薄膜晶体管
 9．1 多晶硅薄膜晶体管
 9．2 氧化物薄膜晶体管
 9．3 化合物薄膜晶体管
 9．4 有机薄膜晶体管
 本章小结
 本章
第10章 有机发光显示原理
 10．1 有机发光显示特点
 10. 2 有机材料的半导体性质
 10．3 有机发光二极管的发光原理
 10．4 有机发光二极管的器件结构
 10．5 有机小分子发光二极管
 10．6 聚合物发光二极管
 本章小结
 本章
第11章 有源矩阵有机发光显示技术
 11．1 OLED的结构和发光方式
 11．2 AMOLED面板的TFT技术
 11. 3 OLED的驱动原理
 11．4 全彩色AMOLED显示
 本章小结
 本章
第12章 新型显示技术
 12．1 激光显示技术
 12．2 3D技术
 12．3 触摸屏技术
 12．4 电子纸技术
 12．5 柔性显示技术
 本章小结
 本章
 参文献