• 半导体干法刻蚀技术:原子层工艺
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半导体干法刻蚀技术:原子层工艺

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山东泰安
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作者[美]索斯藤·莱尔

出版社机械工业出版社

ISBN9787111734260

出版时间2023-10

版次1

装帧其他

开本16开

纸张胶版纸

页数240页

字数341千字

定价119元

货号9787111734260

上书时间2024-11-21

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