薄膜材料与薄膜技术
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作者郑伟涛编著
出版社化学工业出版社
ISBN9787122013149
出版时间2021-09
版次2
装帧平装
开本16开
纸张胶版纸
页数260页
字数390千字
定价49元
货号SC:9787122013149
上书时间2024-12-23
商品详情
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内容简介:
本书系统阐述了薄膜材料与薄膜技术的基本原理和基本知识，重点介绍了薄膜材料的真空制备技术、薄膜的化学制备和物理气相沉积方法、薄膜的形成和生长原理、薄膜的表征，对目前广泛研究和应用的几种主要薄膜材料进行了介绍、评述和展望。本书技术优选，内容实用，适合于从事材料研究的科研、技术人员阅读参考，同时也可作为高校材料专业教材使用。
目录:
第一章真空技术基础
第一节真空的基本知识
一、表示真空程度的单位
二、真空区域的划分
三、固体对气体的吸附及气体的脱附
第二节真空的获得
一、旋片式机械真空泵
二、复合分子泵
三、低温泵
第三节真空的测量
一、电阻真空计
二、热偶真空计
三、电离真空计
参考文献
第二章薄膜制备的化学方法
第一节热氧化生长
第二节化学气相沉积
一、一般化学气相沉积反应
二、化学气相沉积制备薄膜的传统方法
三、激光化学气相沉积
四、光化学气相沉积
五、等离子体增强化学气相沉积
第三节电镀
第四节化学镀
第五节阳极反应沉积
第六节LB技术
参考文献
第三章薄膜制备的物理方法
第一节真空蒸发
一、真空蒸发沉积的物理原理
二、真空蒸发技术
第二节溅射
一、溅射的基本原理
二、溅射镀膜的特点
三、溅射参数
四、溅射装置
第三节离子束和离子助
一、离子镀
二、阴极电弧等离子体沉积
三、热空阴极枪蒸发
四、离子轰击共沉积
五、非平衡磁控离子助沉积
六、离子束沉积
第四节外延生长
一、分子束外延（MBE）
二、液相外延生长（LPE）
三、热壁外延生长（HWE）
四、有机金属化学气相沉积（MOCVD）
参考文献
第四章薄膜的形成与生
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