微机电系统

图书标准信息

• 作者 乔大勇 编；苑伟政
• 出版社 西北工业大学出版社
• 出版时间 2011-03
• 版次 1
• ISBN 9787561230305
• 定价 28.00元
• 装帧 平装
• 开本 16开
• 纸张 胶版纸
• 页数 207页
• 字数 323千字

【内容简介】

　　《微机电系统》是在教育部对研究生推荐教材《微机械与微细加工技术》的基础上，结合微机电系统领域最新的研究成果编著而成的。全书共分为六章，分别介绍了MEMS发展历程，MEMS理论基础，MEMS基本工艺技术，MEMS设计技术，典型微器件与微系统和微测试技术。在介绍微加工工艺方面，《微机电系统》结合大量工艺实例，易于学生理解，有助于提高其动手能力；对各种典型微机电器件的介绍，大部分来源于实验室的课题研究实例，内容充实新颖。

  《微机电系统》可以作为高年级本科生和研究生学习微机电系统的教材使用，还可以作为工程技术等专业人员的参考手册。

【目录】

第1章 绪论

1.1 微机电系统的定义

1.2 微机电系统的发展历程

1.3 微机电系统的主要研究内容

1.3.1 基础理论研究

1.3.2 支撑技术研究

1.3.3 应用技术研究

1.4 微机电系统的国内外研究及产业化现状

参考文献

第2章 微机电系统理论基础

2.1 尺度效应

2.1.1 尺度效应对材料性能的影响

2.1.2 尺度效应对黏附特性的影响

2.1.3 尺度效应对静电特性的影响

2.1.4 尺度效应对流体系统的影响

2.1.5 尺度效应对电学特性的影响

2.1.6 尺度效应对热传导的影响

2.2 材料基础

2.2.1 硅材料

2.2.2 硅化合物

2.2.3 压电材料

2.2.4 形状记忆合金

2.2.5 超磁致伸缩材料

2.2.6 电流变体与磁流变体

2.2.7 有机聚合物材料

2.3 力学基础

2.3.1 微梁

2.3.2 挤压薄膜阻尼

2.3.3 质量块一弹簧一阻尼系统

参考文献

第3章 微机电系统制造基本工艺

3.1 引言

3.2 光刻

3.2.1 光刻基本原理

3.2.2 制版

3.2.3 脱水烘

3.2.4 涂胶

3.2.5 软烘

3.2.6 对准

3.2.7 曝光

3.2.8 中烘

3.2.9 显影

3.2.10 坚膜

3.2.11 镜检

3.2.12 去胶

3.3 剥离

3.3.1 单层胶氯苯处理法

3.3.2 双层胶法

3.3.3 图形反转胶法

3.3.4 其他方法

3.4 湿法腐蚀

3.4.1 硅的各向同性湿法腐蚀

3.4.2 硅的各向异性湿法腐蚀

3.4.3 二氧化硅的湿法腐蚀

3.4.4 氮化硅的湿法腐蚀

3.4.5 铝的湿法腐蚀

3.4.6 其他材料的湿法腐蚀

3.5 干法刻蚀

3.5.1 等离子基础

3.5.2 等离子体的产生

3.5.3 溅射刻蚀

3.5.4 等离子刻蚀

3.5.5 反应离子刻蚀

3.5.6 深度反应离子刻蚀

3.6 氧化

3.6.1 氧化设备

……

第4章 微机电系统设计

第5章 典型微机电器件及系统

第6章 微机电系统测试

参考文献