专利审查案例丛书：元器件和半导体领域专利审查案例评析

图书标准信息

• 作者 应志红、刘军、张月 著
• 出版社 知识产权出版社
• 出版时间 2013-07
• 版次 1
• ISBN 9787513021029
• 定价 36.00元
• 装帧 平装
• 开本 16开
• 纸张 胶版纸
• 页数 132页
• 字数 110千字
• 正文语种 简体中文
• 丛书 专利审查案例丛书

【内容简介】

　　《专利审查案例丛书：元器件和半导体领域专利审查案例评析》以新颖性、创造性判断为主线，针对元器件、半导体领域提供了一些具有典型性的审查案例并进行分析。其中，既有涉及检索技巧，也有涉及技术理解、法律判断的案例。有些案例很有特点，分析也颇有深度。

【作者简介】

应志红、刘军、张月、王鹏、刘晓华、钱丹娜、杨万里等，国家知识产权局专利局电学发明审查部资深专利审查员。

【目录】

序言
第一章检索
第一节全面检索
1.1.1对有检索报告的PCT申请的充分检索
1.1.2补充检索的时机把握
第二节检索技巧
1.2.1复杂数值范围的检索
1.2.2具有形貌特征的权利要求的检索
1.2.3检索过程中关键词的扩展
1.2.3.1效果性限定
1.2.3.2功能性限定

第二章实体审查
第一节把握立法宗旨，正确适用法律条款
第二节理解发明实质，准确判断申请
2.2.1新颖性审查
2.2.2创造性审查
2.2.2.1创造性评述时“三步法”的使用
2.2.2.2通过合乎逻辑的分析、推理或有限试验得出数值限定的判断
2.2.2.3公知常识在创造性判断中的应用
2.2.3针对申请人意见陈述的审查
2.2.3.1准确判断申请人意见的合理性
2.2.3.2适当的评述方式提高沟通效率
第三节合理使用证据，提升通知书说服力
2.3.1对比文件证据的使用
2.3.1.1权利要求中的并列技术方案分别采用不同的对比文件评述
2.3.1.2独立权利要求与从属权利要求分别采用不同的对比文件评述
2.3.1.3两组从属权利要求分别采用不同的对比文件评述
2.3.2公知常识证据的使用
2.3.2.1首次审查意见提供公知常识证据
2.3.2.2后续审查中提供公知常识证据
2.3.2.3公知常识认定存在异议时的替代证据

第三章其他
第一节缺乏必要技术特征
第二节优先权核实
第三节公开不充分
3.3.1半导体制造方法公开不充分
3.3.2显示器装置公开不充分