产业专利分析报告(第10册):功率半导体器件
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作者杨铁军 编
出版社知识产权出版社
出版时间2013-03
版次1
装帧平装
货号B37
上书时间2023-03-11
商品详情
- 品相描述:全新
-
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图书标准信息
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作者
杨铁军 编
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出版社
知识产权出版社
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出版时间
2013-03
-
版次
1
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ISBN
9787513017886
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定价
46.00元
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装帧
平装
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开本
16开
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纸张
胶版纸
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页数
198页
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字数
320千字
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正文语种
简体中文
- 【内容简介】
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《产业专利分析报告(第10册):功率半导体器件》是功率半导体器件行业的专利分析报告。报告从功率半导体器件行业的专利(国内、国外)申请、授权、申请人的已有专利状态、其他先进国家的专利状况、同领域领先企业的专利壁垒等方面入手,充分结合相关数据,展开分析,并得出分析结果。《产业专利分析报告(第10册):功率半导体器件》是了解功率半导体器件行业技术发展现状并预测未来走向,帮助企业做好专利预警的必备工具书。
- 【目录】
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第1章研究概述
1.1技术概况
1.1.1主要功率半导体器件的技术特点及应用
1.1.2产业现状
1.1.3行业需求
1.2研究对象和方法
1.2.1技术分解
1.2.2数据检索
1.2.3查全查准评估
1.2.4数据处理
1.2.5相关事项和约定
第2章功率半导体器件领域专利分析
2.1全球专利分析
2.1.1发展趋势分析
2.1.2首次申请国家/地区分析
2.1.3目标国家/地区分析
2.1.4申请人分析
2.2中国专利分析
2.2.1中国专利申请发展趋势分析
2.2.2主要技术分析
2.2.3专利申请的国别分析
2.2.4专利申请的省市/地区区域分布
2.2.5国内外申请人的类型分析
2.2.6主要申请人分析
2.3结论
第3章IGBT领域专利申请分析
3.1IGBT领域产业技术概况
3.1.1技术概况
3.1.2产业现状
3.2全球专利申请现状
3.2.1技术构成分析
3.2.2IGBT结构的技术发展路线
3.2.3首次申请国家/地区分析
3.2.4目标国家/地区分析
3.2.5申请人分析
3.3中国专利申请现状
3.3.1申请趋势分析
3.3.2技术构成分析
3.3.3技术功效分析
3.3.4国外申请人区域分布分析
3.3.5中国申请人区域分布分析
3.3.6主要申请人分析
3.3.7小结
3.4结论
3.4.1全球申请
3.4.2中国申请
第4章SiC器件专利申请分析
4.1全球专利申请现状
4.1.1申请趋势分析
4.1.2技术生命周期分析
4.1.3技术构成分析
4.1.4申请人国家/地区分布
4.1.5申请人分析
4.2中国专利申请现状
4.2.1申请趋势分析
4.2.2技术构成分析
4.2.3申请人分析
4.3MOSFET栅氧化膜技术分析
4.3.1发展路线分析
4.3.2中国申请技术布局
4.3.3未来需重点关注的相关申请
4.4结论
4.4.1全球申请状况
4.4.2中国申请状况
4.4.3MOSFET栅氧化膜技术
第5章英飞凌公司专利申请分析
5.1专利申请现状
5.1.1申请量趋势分析
……
第6章ABB公司专利申请分析
第7章重要专利筛选及分析
第8章主要结论
附录1重要专利列表
附录2SiCMOSFET器件栅氧化膜技术未来需要关注的相关申请
图索引
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