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  • 3D集成手册--三维工艺技术(第3卷)(精)9787515921648
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3D集成手册--三维工艺技术(第3卷)(精)9787515921648

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作者(美)菲利普·加洛//(日)小柳光政//(德)彼得·拉姆|译者:吴道伟//王玮//刘建军//余欢

出版社中国宇航

ISBN9787515921648

出版时间2022-10

装帧其他

开本其他

定价128元

货号32075862

上书时间2024-12-30

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品相描述：全新
商品描述
目录
第1章  2008年以来的3D IC集成
第2章  3D集成和转接板技术的主要应用和市场趋势
第3章  2.5D/3D集成的经济驱动因素和障碍
第4章  转接板技术
第5章  TSV制造综述
第6章  TSV单元工艺和集成
第7章  ASET的TSV制备
第8章  激光辅助晶圆加工：穿透衬底钻孔和再布线层沉积的新视角
第9章  临时键合材料的需求
第10章  临时键合和解键合——材料和方法的更新换代
第11章  ZoneBOND：临时键合和室温解键合技术的最新进展
第12章  TOK的临时键合和解键合
第13章  3M晶圆支撑系统
第14章  临时键合和解键合工艺流程的比较
第15章  减薄、通孔露头和背面工艺概述
第16章  薄硅片背面减薄和应力消除技术
第17章  通孔露头和背面处理工艺
第18章  切割、减薄和抛光
第19章  三维集成的键合和组装概述
第20章  台积电(TSMC)的键合与组装
……

内容摘要
 3D集成手册的主要编辑是来自高科技公司和著名研究机构的顶级作者，这本书涵盖了3D工艺技术详细的细节。因此，从技术和材料科学的角度来看，本书主要
关注的是硅的形成、键合和解键合、减薄、露头和背面处理等工艺。本书的最后一
部分是关于评估和增强3D集成设备的可靠性，这是这种新兴技术大规模实施的先决条件。对材料科学家，半导体物理学家，和那些工作在半导体领域，以及IT和电气工程师有非常阅读价值。

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