纳米加工技术与原理

图书标准信息

• 作者 [加拿大]玛利亚 斯捷潘诺娃 编
• 出版社 国防工业出版社
• 出版时间 2021-07
• 版次 1
• ISBN 9787118123227
• 定价 119.00元
• 装帧 其他
• 开本 16开
• 纸张 胶版纸
• 页数 328页
• 字数 368千字

【内容简介】

本书为电子、材料以及物理等领域的科学家和工程师更新纳米结构加工的新核心技术。主要内容包括亚25nm图形的光刻技术，纳米尺度精度的沉积技术，纳米尺度的图形刻蚀技术等。本书的亮点不是为了延展微电子制造工艺，而是更多聚焦于可在纳机电系统、生物传感器、纳米材料、光子晶体以及其它新型器件结构等革命性技术领域应用的图形加工技术。

【作者简介】

段辉高，男，1982年8月出生于湖南衡阳，现任湖南大学物理与微电子科学学院教授，博士生导师，主要研究方向为新型纳米加工技术。

【目录】

章  纳米加工研究方向简介
  1.1  纳米加工
  1.2  纳米光刻
  1.3  纳米薄膜沉积
  1.4  纳米尺度下的刻蚀及图形化工艺
  1.5  小结
  参考文献
第2章  电子束曝光与显影的基本原理
  2.1  引言
    2.1.1  电子传输
    2.1.2  电子束抗蚀剂
    2.1.3  抗蚀剂的显影
    2.1.4  工艺参数
  2.2  PMMA抗蚀剂工艺窗口
    2.2.1  温度对工艺窗口的影响
    2.2.2  曝光剂量和显影时间的相互影响
    2.2.3  曝光电压的影响
  2.3  EBL工艺优化：典型示例
    2.3.1  低压曝光、低温显影PMMA工艺
    2.3.2  通过控制PMMA实现亚20nm宽桥结构
    2.3.3  HSQ亚10nm工艺
    2.3.4  HSQ抗蚀剂作为刻蚀掩模：8nm宽桥结构
  2.4  绝缘衬底
  2.5  小结
  参考文献
第3章  电子束曝光与抗蚀剂工艺的模拟仿真
  3.1  引言
  3.2  仿真流程图
  3.3  电子束曝光仿真模块
    3.3.1  建模方法
    3.3.2  能量沉积函数
    3.3.3  电子束形效应
    3.3.4  模拟版图中的能量分布
    3.3.5  邻近效应校正
  3.4  抗蚀剂模拟模块
    3.4.1  宏观尺度下的抗蚀剂建模
    3.4.2  介观尺度下的抗蚀剂显影模型建模
  3.5  电子束曝光模拟的商用化软件
    3.5.1  电子束一物质相互作用
    3.5.2  邻近效应校正
    3.5.3  现代化的软件工具
  3.6  实例
    3.6.1  电子束图形化模拟及其在多层膜衬底上复杂版图的测量
    3.6.2  模拟电子束曝光中白噪声对32nm节点CD及LER的影响
  3.7  小结
  参考文献
第4章  氦离子光刻的原理及性能
  4.1  引言
  4.2  氮离子束系统
  4.3  氮离子与物质的相互作用
    4.3.1  初始离子束发散
    4.3.2  二次电子的产生
    4.3.3  二次电子的能量分布
    4.3.4  二次电子的曝光贡献
    4.3.5  曝光损伤
  4.4  氮离子束光刻
    4.4.1  灵敏度和对比度
    4.4.2  分辨率
    4.4.3  邻近效应
    4.4.4  Al2O3抗蚀剂
  4.5  结论和展望
  参考文献
……
第5章  纳米压印技术
第6章  原子层沉积纳米技术
第7章  纳米尺度下的表面功能化
第8章  基于嵌段共聚物自组装的纳米结构
第9章  电沉积法在半导体上外延生长金属
0章  用于纳米技术的化学机械抛光
1章  聚焦氦离子束沉积、铣削与刻蚀加工
2章  激光纳米图形化
3章  基于纳米多孔阳极Al2O3／TiO2的模板制作与图形转移技术
参考文献

内容摘要
    纳米图形加工是目前微纳米科技中的关键技术，本书邀请了靠前上本领域的多位专家在自己的特长领域撰写了相关章节，对纳米图形加工技术做了较全面的介绍，对我国从事微纳米加工、精密制造、微纳光电器件等领域的专家学者有借鉴作用。本书为电子、材料以及物理等领域的科学家和工程师更新纳米结构加工的近期新核心技术。
    本书兼顾了纳米加工的基础原理和应用实例。潜在的读者，即所有对纳米结构加工新方法感兴趣的人员，包括工业界的工艺工程师、学术研究人员、研究生及高年级本科生。本书也可以作为教材为研究生开设一个学期的纳米加工方面的课程，尽管不是专门为教学目标而编写。