光刻胶材料评测技术——从酚醛树脂光刻胶到最新的EUV光刻胶

图书标准信息

• 作者 （日）关口淳（関口淳） 著
• 出版社 化学工业出版社
• 出版时间 2024-04
• 版次 1
• ISBN 9787122438003
• 定价 0.00元
• 装帧 平装
• 开本 16开
• 页数 272页
• 字数 312千字

【内容简介】

光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，在模拟半导体、发光二极管、微机电系统、太阳能光伏、微流道和生物芯片、光电子器件/光子器件中都有重要的应用。本书从光刻技术基础知识出发，系统介绍了多种类型光刻胶应用工艺、评测技术。具体包括光刻胶涂布、曝光工艺、曝光后烘烤和显影技术，以及g线和i线光刻胶、krf和arf光刻胶、arf浸没式光刻胶、euv光刻胶等的特征、应用工艺及评测技术，希望对的研究人员有很好的启发和指导意义。

【目录】

章光刻技术概述001

参文献007

第2章光刻胶的涂覆008

2.1光刻胶涂覆装置008

2.1.1丝网印刷涂覆法008

2.1.2旋涂法008

2.1.3滚涂法010

2.1.4膜压法010

2.1.5浸涂法010

2.1.6喷涂法012

2.2旋涂工艺013

2.2.1旋涂工艺流程013

2.2.2旋涂工艺影响因素015

2.3hmds处理021

2.3.1hmds处理021

2.3.2hmds处理效果021

2.4预烘烤024

2.5膜厚评测026

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