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作者[日】 木本恒暢【美]詹姆士 A. 库珀(Ja(Tsunenobu Kimoto) 著;夏经华 译
出版社机械工业出版社
出版时间2018-05
版次1
装帧平装
货号文轩12.1
上书时间2024-12-03
《碳化硅技术基本原理 生长、表征、器件和应用》是一本有关碳化硅材料、器件工艺、器件和应用方面的书籍,其主题包括碳化硅的物理特性、晶体和外延生长、电学和光学性能的表征、扩展缺陷和点缺陷,器件工艺、功率整流器和开关器件的设计理念,单/双极型器件的物理和特征、击穿现象、高频和高温器件,以及碳化硅器件的系统应用,涵盖了基本概念和新发展现状,并针对每个主题做深入的阐释,包括基本的物理特性、新的理解、尚未解决的问题和未来的挑战。
译者序
原书前言
原书作者简介
第1章 导论1
第2章 碳化硅的物理性质10
第3章 碳化硅晶体生长36
第4章 碳化硅外延生长70
第5章 碳化硅的缺陷及表征技术117
第6章 碳化硅器件工艺177
第7章 单极型和双极型功率二极管262
第8章 单极型功率开关器件286
第9章 双极型功率开关器件336
第10章 功率器件的优化和比较398
第11章 碳化硅器件在电力系统中的应用425
第12章 专用碳化硅器件及应用466
附录490
参考文献499
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