• 晶体生长的物理基础
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晶体生长的物理基础

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作者闵乃本 著

出版社南京大学出版社

出版时间2019-10

版次1

装帧精装

货号文轩12.21

上书时间2024-12-21

   商品详情   

品相描述:全新
图书标准信息
  • 作者 闵乃本 著
  • 出版社 南京大学出版社
  • 出版时间 2019-10
  • 版次 1
  • ISBN 9787305225369
  • 定价 98.00元
  • 装帧 精装
  • 开本 16开
  • 纸张 胶版纸
  • 页数 396页
  • 字数 0.56千字
【内容简介】
本书用传输理论、热力学、统计物理学和动力学理论系统地总结和解释了晶体生长过程,着重讨论了熔体生长特别是直拉法生长。结合温场、溶质分凝、液流效应等问题做了仔细的分析并给出相应的物理解释。对不同生长系统中的的生长动力学采用统一的观点加以阐述。本书是一本全面论述晶体生长理论的专著,既可作为高等院校学生和研究有关晶体生长课程的教科书或教学参考书,也可作为相关科技人员的参考读物。 


【作者简介】
南京大学教授,中国科学院院士,第三世界科学院院士。曾任南京大学固体微结构国家重点实验室主任、学术委员会主任教育部“材料科学与工程教学指导委员会”主任,中国晶体学会理事长。于1998年获“何梁何利科学与进步奖”,1999年获第三世界科学院基础科学奖——物理奖,2006年获国家自然科学一等奖,2009年被评为“新中国成立以来江苏省十大杰出科技人物” 


【目录】


绪论
章  温场和热量传输
  节  炉膛内温场的描述
    一、温场
    二、温场的实验描述
    三、稳态温场
  第二节  从能量守恒讨论晶体生长工艺
    一、能量守恒方程
    二、晶体直径的控制
    三、晶体的极限生长速率
    四、放肩阶段
    五、晶体旋转对直径的影响
  第三节  能量守恒的微分形式和一维稳态温场
    一、温场的数学描述
    二、能量守恒的微分形式
    三、一维稳态温场
  第四节  晶体中的温场
  第五节  坩娲中液面位置及辐屏对温场的影响
    一、坩场中液面位置对温场的影响
    二、辐屏对晶体中温场的影响
  第六节  晶体生长过程中直径的惯和直径响应方程
    一、直径的惯
    二、温度边界层
    三、直径响应方程
  第七节  非稳温场和温度波
第二章  溶质分凝和质量传输
  节  固溶体和溶液
  第二节  溶液的凝固和衡分凝系数
  第三节  溶质浓度场和溶质守恒
  第四节  溶质保守系统中的浓度场
    一、属于溶质保守系统的生长方法
    二、在准静态生长过程中的溶质分布
    三、溶质的扩散效应
    四、对流对溶质分凝的影响及有效分凝系数
    五、直拉法生长中晶体旋转对溶质分凝的影响
  第五节  溶质非保守系统中的浓度场
    一、属于溶质非保守系统的生长方法
    二、溶质非保守系统的分凝理论―区熔理论
    三、扩散占优势的溶质边界层与熔区的相似
    四、多次区熔的极限分布
    五、温度梯度区域熔化―tgzm
  第六节  直拉法生长过程中的溶质均化
    一、计划速率法
    二、溶液稀释法
    三、溶液补充法
    四、层熔法
第三章  热量、质量的混合传输
  节  混合传输
  第二节  实验模拟和数字模拟
    一、实验模拟
    二、数字模拟
  第三节  相似流动
    一、相似流动―雷诺数和弗鲁得数
    二、模拟实验的设计
  第四节  坩娲中的自然对流
    一、非等温系统和非等浓度系统中的浮力
    二、水温差和浓度差引起的自然对流―格拉斯霍夫数
    三、铅直温差和浓度差引起的自然对流―瑞利数
  第五节  混合传输的相似
  第六节  生长过程中液流的转变与界面翻转
    一、自然对流向强迫对流的转变
    二、界面翻转
第四章  生长速率起伏和生长层
第五章  界面稳定和组分过冷
第六章  相衡和相图
第七章  界面的宏观质与微观结构
第八章  成核
第九章  生长动力学
第十章  生长过程中位错的产生、延伸和分布

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