真空镀膜技术与应用

图书标准信息

• 作者 田灿鑫
• 出版社 武汉工业大学出版社
• 出版时间 2024-05
• 版次 1
• ISBN 9787562969792
• 定价 98.00元
• 装帧 其他
• 开本 16开
• 页数 244页
• 字数 242千字

【内容简介】

本书内容涵盖了真空镀膜的关键技术和实际应用。在介绍真空镀膜技术基础理论及应用的基础上，着重阐述了真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、等离子体增强化学气相沉积的原理、工艺、应用等，紧接着介绍了薄膜厚度的测量、薄膜分析检测技术等方面的内容，最后详细阐述了工模具真空镀膜生产线的具体工艺流程。本书叙述深入浅出，内容丰富而精炼，工程实践性强，在强化理论的同时，重点突出了工程应用，具有很强的实用性。本书适合从事真空镀膜技术、薄膜与表面工程、材料工程等领域的研究、设计、设备操作及维护工作的技术人员阅读参考。

【目录】

1真空镀膜技术概论

1.1真空镀膜技术分类

1.2真空基础知识

1.3真空镀膜系统

1.4真空的获得

1.5真空的测量

1.6真空镀膜技术的应用

2真空蒸发镀膜

2.1真空蒸发镀膜的原理

2.2蒸发加热方式及蒸发源

2.3真空蒸镀工艺

2.4真空蒸发镀膜技术的应用

3真空溅射镀膜

3.1溅射镀膜的特点

3.2溅射的基本原理

3.3直流溅射

3.4射频溅射

3.5磁控溅射

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