金属陶瓷薄膜及其在光电子技术中的应用

图书标准信息

• 作者 孙大明、孙兆奇 著
• 出版社 科学出版社
• 出版时间 2004-01
• 版次 1
• ISBN 9787030132307
• 定价 56.00元
• 装帧 平装
• 开本 16开
• 纸张 胶版纸
• 页数 383页
• 正文语种 简体中文
• 丛书 华夏英才基金学术文库

【内容简介】

《金属陶瓷薄膜及其在光电子技术中的应用》叙述了金属陶瓷薄膜的制备技术、结构性能、理论模型以及应用前景，既有大量的实验结果，又有简明的理论分析，并涉及国际、国内的最新进展与发展趋势。本书内容丰富、取材新颖、注重分析比较，倡导内容创新。

【目录】

序
前言
第1章金属陶瓷薄膜的制备
1.1金属陶瓷薄膜制膜材料的选择和膜系设计
1.2金属陶瓷薄膜制备中的困难与解决途径
1.3金属陶瓷薄膜的制备方法

第2章金属陶瓷薄膜的分析方法
2.1X射线衍射和电子衍射分析方法
2.2电子能谱分析方法
2.3红外光谱和拉曼光谱分析方法
2.4紫外-可见光谱分析方法
2.5椭圆偏振光谱分析方法
2.6Z-扫描分析方法
2.7薄膜应力分析方法

第3章金属陶瓷薄膜的理论基础
3.1Maxwell-Garnett弥散微结构理论
3.2Bruggeman聚集微结构理论
3.3Bergman渗透阈理论
3.4PingSheng双团簇微结构理论
3.5Stroud-Milton-De复折射率理论
3.6多相混合模型
3.7介电函数理论对光学双稳态的计算

第4章金属陶瓷薄膜的光学性能
4.1一般光学性能
4.2光学共振吸收
4.3光学带隙
4.4光学双稳态
4.5拉曼散射

第5章金属陶瓷薄膜的电磁学性能
5.1导电性能
5.2巨磁电阻效应
5.3巨霍尔效应
5.4介电性能

第6章金属陶瓷薄膜的若干应用
6.1在光子技术方面的应用
6.2在计算机技术方面的应用
6.3在微、纳电子技术方面的应用
6.4在传感器技术方面的应用
6.5多频三维只读光盘