光刻技术(原著第二版) 林本坚 著 严天宏 译 新华文轩网络书店 正版图书
电子、电工 未来科学大奖、IEEE西泽润一奖得主“浸没式光刻之父”集大成之作，改写全球半导体芯片制造业格局 新华书店全新正版书籍
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作者林本坚
出版社化学工业出版社
ISBN9787122451514
出版时间2024-08
版次1
装帧精装
开本16开
页数380页
字数592千字
定价198元
货号1203364476
上书时间2024-09-02
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★★★★★ 原著作者林本坚博士：浸没式光刻之父、未来科学大奖得主、台积电前副总经理
★★★★★ 凝聚林本坚博士在半导体芯片制造领域的数十年大规模制造的经验以及教学心得
★★★★★ 一本书完全详解集成电路光刻技术，涵盖接近式、投影式、浸没式、极紫外光刻
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