纳米级CMOS VLSI电路:可制造性设计:design for manufacturability
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北京朝阳
作者(美)桑迪普·昆杜(Sandip Kundu)，(美)阿斯温·斯雷德哈(Aswin Sreedhar)著
出版社机械工业出版社
ISBN9787111782704
出版时间2025-06
版次1
装帧平装
开本16开
定价79元
货号R_18223992
上书时间2026-01-26
商品详情
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- 商品描述
- 本书是可制造性设计的详细指南，提供了过验证的、优化电路设计的方法，以提高产品的良率、可靠性和可制造性，并减少缺陷和故障。本书首先介绍了CMOS VLSI设计的趋势，并简要介绍了可制造性设计和可靠性设计的基本概念；其次介绍了半导造的各种工艺步骤，并探讨了工艺与器件偏差以及分辨率技术；然后深入研究了半导造过程中的各种制造缺陷及其对电路的影响，并讨论了可靠性问题的物理机制及其影响；后探讨了在电路实现过程中不同阶段采用DFM和DFR方法所带来的变化。本书不仅适合从事半导体设计的工程师和研究人员阅读，还可以作为相关专业本科生和研究生的参考教材。
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