{正版现货新书} 钨合金界面性质的理论模拟 9787502496654 张旭著

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北京丰台

作者张旭著

出版社冶金工业出版社

ISBN9787502496654

出版时间2023-09

装帧平装

开本其他

定价72元

货号14574815

上书时间2026-01-29

商品详情

品相描述：全新

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目录1 绪论1.1概述1.2第一壁材料的研究1.2.1铍的研究1.2.2碳基材料的研究1.2.3W的第一壁材料研究1.24W合金的第一壁材料研究1.3主要研究内容参考文献2 计算方法2.1概述2.2密度泛函理论2.2.1HohenbergKohn定理2.2.2KohnSham方程2.2.3交换关联泛函2.3赝势和投影缀加波方法2.4自洽方法2.5结构优化方法2.5.1HellmannFeynman力2.5.2共轭梯度法2.6NEB2.7表面能、界面能、黏附功、偏聚能和拉伸应力2.8界面模型的构建参考文献3 W-ZrC界面稳定性与H、He的扩散机理研究3.1概述3.2计算方法3.3结果和讨论3.3.1块体和表面性质3.3.2界面模型和界面的稳定性3.3.3H和He在界面的偏析和迁移3.4本章小结参考文献4碳化物弥散和杂质对钨合金界面性能影响4.1概述4.2计算方法4.3结果4.3.1界面能4.3.2拉伸应力计算4.3.3界面对轻的元素的捕获4.4讨论4.4.1界面结构和临界半径4.4.2理论研究与辐照实验对比4.5本章小结参考文献5 ZrO2（001）W（001）界面性质5.1概述5.2计算方法5.3结果和讨论5.3.1块体和表面性质5.3.2界面模型和稳定性5.3.3界面结合强度、脆性和强度5.3.4电子结构5.4本章小结参考文献6 展望

内容摘要
本书主要采用钨合金作为核聚变堆中面向等离子体的第一壁材料进行探索。全书共6章，主要介绍了界面及杂质在界面偏聚对钨合金性能的影响机理及其理论研究的新进展，包括：钨与碳化锆、碳化钛和氧化锆等界面的特点，杂质在钨碳化物界面的偏聚行为，从热力学的角度分析了界面的稳定性、结合强度及杂质在界面的偏聚行为，界面的电子特征与成键特点，以及对理论研究的潜在应用价值和意义进行讨论。本书适合材料、物理及化学专业的师生参考，也可供相关从业者阅读。

精彩内容
本书主要采用钨合金作为核聚变堆中面向等离子体的第一壁材料进行探索。全书共6章，主要介绍了界面及杂质在界面偏聚对钨合金性能的影响机理及其理论研究的新进展，包括：钨与碳化锆、碳化钛和氧化锆等界面的特点，杂质在钨碳化物界面的偏聚行为，从热力学的角度分析了界面的稳定性、结合强度及杂质在界面的偏聚行为，界面的电子特征与成键特点，以及对理论研究的潜在应用价值和意义进行讨论。本书适合材料、物理及化学专业的师生参考，也可供相关从业者阅读。