• 超大规模集成电路先进光刻理论与应用
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超大规模集成电路先进光刻理论与应用

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作者韦亚一 著

出版社科学出版社

ISBN9787030482686

出版时间2016-06

版次1

装帧精装

开本16开

纸张胶版纸

页数558页

字数780千字

定价359元

货号nj-9787030482686

上书时间2025-01-04

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