• 碳化硅技术基本原理 生长、表征、器件和应用
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碳化硅技术基本原理 生长、表征、器件和应用

95.08 6.3折 150 九品

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作者[日】 木本恒暢【美]詹姆士 A. 库珀(Ja(Tsunenobu Kimoto) 著;夏经华 译

出版社机械工业出版社

出版时间2018-05

版次1

装帧平装

货号A3

上书时间2024-12-19

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品相描述:九品
图书标准信息
  • 作者 [日】 木本恒暢【美]詹姆士 A. 库珀(Ja(Tsunenobu Kimoto) 著;夏经华 译
  • 出版社 机械工业出版社
  • 出版时间 2018-05
  • 版次 1
  • ISBN 9787111586807
  • 定价 150.00元
  • 装帧 平装
  • 开本 16开
  • 纸张 胶版纸
  • 页数 499页
  • 字数 649千字
  • 丛书 新型电力电子器件丛书
【内容简介】

《碳化硅技术基本原理 生长、表征、器件和应用》是一本有关碳化硅材料、器件工艺、器件和应用方面的书籍,其主题包括碳化硅的物理特性、晶体和外延生长、电学和光学性能的表征、扩展缺陷和点缺陷,器件工艺、功率整流器和开关器件的设计理念,单/双极型器件的物理和特征、击穿现象、高频和高温器件,以及碳化硅器件的系统应用,涵盖了基本概念和新发展现状,并针对每个主题做深入的阐释,包括基本的物理特性、新的理解、尚未解决的问题和未来的挑战。

【作者简介】


木本恒畅,本京都大学电子科学与工程系的教授。他的主要科研活动包括ic的外延生长、光学和电学特表征、缺陷电子学、离子注入、金属氧化物半导体(mo)物理和高电压器件。此外,他也参与了在纳米级的硅、锗器件、非易失存储器中用新型材料,以及基于氮化镓(gan)的电子器件方面的研究。詹姆士a.库珀,美国普渡大学电气与计算机工程学院的一位半导体界的元老级人物。
【目录】

译者序 
原书前言 
原书作者简介 
第1章 导论1 
第2章 碳化硅的物理性质10 
第3章 碳化硅晶体生长36 
第4章 碳化硅外延生长70 
第5章 碳化硅的缺陷及表征技术117 
第6章 碳化硅器件工艺177 
第7章 单极型和双极型功率二极管262 
第8章 单极型功率开关器件286 
第9章 双极型功率开关器件336 
第10章 功率器件的优化和比较398 
第11章 碳化硅器件在电力系统中的应用425 
第12章 专用碳化硅器件及应用466 
附录490 
参考文献499

 


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