绝缘体上硅（SOI）技术——制造及应用

图书标准信息

• 作者 [法]Oleg,Kononchuk,ich-Yen,Nguyen 著,刘忠立,宁瑾,赵凯 译
• 出版社 国防工业出版社
• 出版时间 2018-12
• 版次 1
• ISBN 9787118116366
• 定价 128.00元
• 装帧 其他
• 开本 16开
• 纸张 胶版纸

【内容简介】

　　《绝缘体上硅（SOI）技术：制造及应用》的目的是对SOI CMOS新技术的进展进行全面介绍。全书分为两部分：*部分介绍SOI晶圆片的制造工艺、表征及SOI器件物理；第二部分介绍相关的各种应用。全书既涉及部分耗尽SOI这样已成熟的技术，也包括全耗尽平面SOI技术、FinFET、射频、光电子、MEMS以及超低功耗应用这样一些新发展的技术。晶体管级和电路级解决方案也均有涉及。我们将这《绝缘体上硅（SOI）技术：制造及应用》的解决方案限定在32~14nm技术节点的范围，并将应用限定在技术成熟到足以实现批量生产的范围。