光刻机像质检测技术(下册)
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作者王向朝 等
出版社科学出版社
ISBN9787030673558
出版时间2021-03
版次1
装帧精装
开本16开
纸张胶版纸
页数500页
字数713千字
定价228元
货号SC:9787030673558
上书时间2024-10-18
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商品详情
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内容简介:
光刻机像质检测技术是支撑光刻机整机与分系统满足光刻机分辨率、套刻精度等性能指标要求的关键技术。本书系统地介绍了光刻机像质检测技术。介绍了国际主流的光刻机像质检测技术，详细介绍了本团队提出的系列新技术，涵盖了光刻胶曝光法、空间像测量法、干涉测量法等检测技术，包括初级像质参数、波像差、偏振像差、动态像差、热像差等像质检测技术。本书介绍了这些技术的理论基础、原理、模型、算法、仿真与实验验证等内容。以光刻机原位与在线像质检测技术为主，也介绍了投影物镜的离线像质检测技术，涵盖了深紫外干式、浸液光刻机以及极紫外光刻机像质检测技术。本书适用于从事光刻机研究与应用的科研与工程技术人员，可作为高等院校、科研院所相关领域的科研人员、教师、研究生与本科生的参考书。同时，可为现代光学精密检测、光学成像等领域的科技人员、研究生和高等院校的本科生提供参考。
目录:
序言
前言
第7章 基于原位PMI的波像差检测
7.1 Shack-Hartmann检测技术
7.2 线衍射干涉检测技术
7.3 Ronchi剪切干涉检测技术
7.3.1 在光刻机中的应用
7.3.2 干涉场的理论分析
7.3.3 相位提取技术
7.3.4 波前重建技术
7.3.5 实验系统参数设计与实验结果
7.4 多通道Ronchi剪切干涉检测技术
7.4.1 稀疏采样法波前重建
7.4.2 多通道检测系统设计
参考文献
第8章 偏振像差检测
8.1 偏振像差对光刻成像质量的影响
8.2 偏振像差表征方法
8.2.1 偏振态及其变换的表征方法
8.2.2 穆勒矩阵表征法
8.2.3 琼斯矩阵表征法
8.2.4 三阶琼斯矩阵表征法
8.3 基于光刻胶曝光的检测技术
8.3.1 SPlN-BLP技术
8.3.2 基于相移掩模的检测技术
8.4 基于椭偏测量的检测技术
8.4.1 穆勒光瞳检测技术
8.4.2 琼斯光瞳检测技术
8.5 基于空间像测量的检测技术
8.5.1 基于空间像位置偏移量的检测
8.5.2 基于差分空间像主成分分析的检测
参考文献
第9章 极紫外光刻投影物镜波像差检测
9.1 基于干涉测量的检测技术
9.1.1 点衍射干涉检测
9.1.2 剪切干涉检测
9.1.3
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