晶体结构精修原理及技术

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作者谷亦杰著

出版社科学出版社

ISBN9787030793461

出版时间2024-08

装帧平装

开本其他

定价98元

货号1203363577

上书时间2024-09-05

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商品描述: 目录
目录
前言
第1章引言 1
1.1 晶体结构精修的重要性 1
1.2 Topas技术在晶体结构精修中的应用 2
第2章晶体结构精修原理 4
2.1 Rietveld 法概述 4
2.2 Rietveld法数学模型 7
2.2.1 Rietveld法数学模型介绍 7
2.2.2 Topas技术全谱图拟合精修的策略 13
2.2.3 精修结果正确性判据及结构精修常见问题 14
第3章精修技术 19
3.1 Topas技术功能及特点 19
3.2 用户界面 22
第4章精修分析 43
4.1 粉末衍射结构解析中的指标化 43
4.2 磷酸铁锂的精修 45
4.3 菱铁矿多相的精修 81
第5章精修有关的其他问题 115
5.1 计算两相比例方法 115
5.2 晶胞参数拟合 124
5.3 晶粒尺寸 132
5.4 微观应力 142
第6章结论与展望 155
6.1 晶体结构精修的意义与价值 155
6.2 Topas软件在晶体结构精修中的优势与不足 156
6.3 未来发展方向与挑战 157
参考文献 158

内容摘要
晶体结构精修主要基于Rietveld方法，该方法通过在给定的晶体结构模型上，利用最小二乘法对晶体结构信息和峰形参数进行拟合，使计算图谱与实际衍射图谱尽可能一致。这种方法能够充分利用全谱衍射数据，有效解析出晶胞参数、原子位置等关键信息，对于材料科学、物理、化学等领域的研究具有重要意义。

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