光刻胶材料评测技术——从酚醛树脂光刻胶到最新的EUV光刻胶

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广东广州

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作者(日)关口淳著方书农译

出版社化学工业出版社

ISBN9787122438003

出版时间2024-04

装帧精装

开本16开

定价198元

货号1203370953

上书时间2024-11-14

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商品描述: 目录
第1章光刻技术概述001

参考文献007

第2章光刻胶的涂覆008

2.1光刻胶涂覆装置008

2.1.1丝网印刷涂覆法008

2.1.2旋涂法008

2.1.3滚涂法010

2.1.4膜压法010

2.1.5浸涂法010

2.1.6喷涂法012

2.2旋涂工艺013

2.2.1旋涂工艺流程013

2.2.2旋涂工艺影响因素015

2.3HMDS处理021

2.3.1HMDS处理原理021

2.3.2HMDS处理效果021

2.4预烘烤024

2.5膜厚评测026

……

内容摘要
光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，在模拟半导体、发光二极管、微机电系统、太阳能光伏、微流道和生物芯片、光电子器件/光子器件中都有重要的应用。本书从光刻技术基础知识出发，系统介绍了多种类型光刻胶应用工艺、评测技术。具体包括光刻胶涂布、曝光工艺、曝光后烘烤和显影技术，以及g线和i线光刻胶、KrF和ArF光刻胶、ArF浸没式光刻胶、EUV光刻胶等的特征、应用工艺及评测技术，希望对国内的研究人员有很好的启发和指导意义。

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