光刻机像质检测技术(下册)
全新正版 极速发货
￥ 153.96 6.8折 ￥ 228 全新
仅1件
广东广州
认证卖家担保交易快速发货售后保障
作者王向朝 等
出版社科学出版社
ISBN9787030673558
出版时间2021-03
装帧精装
开本16开
定价228元
货号1202339503
上书时间2024-11-02
商品详情
- 品相描述：全新
- 商品描述
-
目录
序言
前言
第7章 基于原位PMI的波像差检测
7.1 Shack-Hartmann检测技术
7.2 线衍射干涉检测技术
7.3 Ronchi剪切干涉检测技术
7.3.1 在光刻机中的应用
7.3.2 干涉场的理论分析
7.3.3 相位提取技术
7.3.4 波前重建技术
7.3.5 实验系统参数设计与实验结果
7.4 多通道Ronchi剪切干涉检测技术
7.4.1 稀疏采样法波前重建
7.4.2 多通道检测系统设计
参考文献
第8章 偏振像差检测
8.1 偏振像差对光刻成像质量的影响
8.2 偏振像差表征方法
8.2.1 偏振态及其变换的表征方法
8.2.2 穆勒矩阵表征法
8.2.3 琼斯矩阵表征法
8.2.4 三阶琼斯矩阵表征法
8.3 基于光刻胶曝光的检测技术
8.3.1 SPlN-BLP技术
8.3.2 基于相移掩模的检测技术
8.4 基于椭偏测量的检测技术
8.4.1 穆勒光瞳检测技术
8.4.2 琼斯光瞳检测技术
8.5 基于空间像测量的检测技术
8.5.1 基于空间像位置偏移量的检测
8.5.2 基于差分空间像主成分分析的检测
参考文献
第9章 极紫外光刻投影物镜波像差检测
9.1 基于干涉测量的检测技术
9.1.1 点衍射干涉检测
9.1.2 剪切干涉检测
9.1.3 Fizeau干涉检测
9.2 基于Hartmann波前传感器的检测技术
9.3 基于空间像测量的检测技术
9.3.1 基于空间像匹配的检测技术
9.3.2 基于波前局部曲率测量的检测技术
9.4 基于Ptychography的检测技术
9.4.1 基本原理
9.4.2 相位恢复算法
9.4.3 光场传播公式
9.4.4 仿真与实验
9.5 基于光刻胶曝光的检测技术
参考文献
0章 像质检测关键依托技术
10.1 工件台位置参数检测技术
10.1.1 工件台基座表面形貌测量技术
10.1.2 承片台不平度检测技术
10.1.3 承片台方镜表面不平度检测技术
10.1.4 工件台水平坐标系校正参数检测技术
10.2 调焦调平传感技术
10.2.1 狭缝投影位置传感技术
10.2.2 光栅投影位置传感技术
10.3 硅片对准技术
10.3.1 自相干莫尔条纹对准技术
10.3.2 基于标记结构优化的对准精度提升方法
10.3.3 基于多通道对准信号的对准误差补偿技术
10.4 照明参数检测与控制技术
10.4.1 照明参数优化
10.4.2 照明光瞳偏振参数检测技术
10.4.3 照明均匀性控制技术
10.4.4 曝光剂量控制技术
10.5 光刻成像多参数优化技术
10.5.1 光源优化技术
10.5.2 掩模优化技术
10.5.3 光塬掩模联合优化技术
10.5.4 光源掩模投影物镜联合优化技术
10.5.5 光刻机多参数联合优化技术
10.6 EUV光刻掩模衍射成像仿真技术
10.6.1 无缺陷掩模衍射场仿真技术
10.6.2 含缺陷掩模衍射场仿真技术
参考文献
后记
内容摘要
光刻机像质检测技术是支撑光刻机整机与分系统满足光刻机分辨率、套刻精度等性能指标要求的关键技术。本书系统地介绍了光刻机像质检测技术。介绍了靠前主流的光刻机像质检测技术，详细介绍了本团队提出的系列新技术，涵盖了光刻胶曝光法、空间像测量法、干涉测量法等检测技术，包括初级像质参数、波像差、偏振像差、动态像差、热像差等像质检测技术。本书介绍了这些技术的理论基础、原理、模型、算法、仿真与实验验证等内容。以光刻机原位与在线像质检测技术为主，也介绍了投影物镜的离线像质检测技术，涵盖了深紫外干式、浸液光刻机以及极紫外光刻机像质检测技术。本书适用于从事光刻机研究与应用的科研与工程技术人员，可作为高等院校、科研院所相关领域的科研人员、教师、研究生与本科生的参考书。同时，可为现代光学精密检测、光学成像等领域的科技人员、研究生和高等院校的本科生提供参考。
相关推荐
— 没有更多了 —
以下为对购买帮助不大的评价