真空镀膜设备
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广东广州
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作者张以忱
出版社冶金工业出版社
ISBN9787502450144
出版时间2009-08
装帧平装
开本其他
定价26元
货号11244220
上书时间2024-09-04
商品详情
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目录
1真空镀膜设备设计概述
2真空镀膜室结构设计计算
2.1基本设计原则
2.12镀膜室的材料选择与焊接要求
2.2.1材料选择
2.2.2焊接要求
2.3镀膜室壁厚的计算
2.3.1镀膜室的计算壁厚
2.3.2镀膜室的实际壁厚与壁厚附加量
2.3.3镀膜室的最小壁厚
2.4圆筒形镀膜室壳体的设计计算
2.4.1圆筒形镀膜室基本设计参数
2.4.2圆筒形镀膜室的强度(壁厚)计算
2.4.3外压圆筒加强圈的设计
2.4.4简体加工允许偏差
2.4.5镀膜室封头的壁厚计算
2.5圆锥形壳体的设计
2.6盒形壳体设计
2.7压力试验
2.8真空镀膜室门设计
2.9真空镀膜室的冷却
3镀膜室升降机构的设计
3.1立式镀膜机真空室的升降机构
3.1.1机械升降机构
3.1.2液压升降机构
3.1.3气动液压相结合的升降机构
3.2真空室的复位
4镀膜室工件架的设计
4.1常用工件架
4.1.1球面行星传动工件架
4.1.2摩擦传动工件架
4.1.3齿轮传动工件架
4.1.4拨杆传动工件架
4.2工件架的转速
5真空镀膜机的加热与测温装置
5.1加热方式及其装置
5.2测温方式与装置
5.3真空室内引线设计
6真空镀膜机的挡板机构
7真空镀膜机的抽气系统设计
7.1镀膜设备用真空系统
7.1.1普通镀膜设备用典型高真空系统
7.1.2超高真空系统
7.2真空镀膜机抽气系统的设计
7.2.1真空镀膜设备对抽气系统的要求
7.2.2镀膜机抽气系统的放气量计算
7.2.3真空泵的选择
8真空室内电和运动的导人导出结构设计
8.1电导人导出结构设计
8.1.1电导入导出结构设计要求
8.1.2电导入导出部件的结构形式
8.2运动导入导出结构设计
8.2.1常规转轴动密封导入导出结构
8.2.2磁流体动密封运动导入导出结构
8.2.3金属波纹管密封柔性运动导入导出结构
8.2.4磁力驱动动密封运动导入导出结构
9充布气系统设计
9.1充布气系统设计原则
9.2充布气系统结构设计
9.2.1充布气系统类型及结构
9.2.2布气管路结构形式
9.2.3充布气管路分析计算
9.3充气控制方式设计
9.3.1封闭式气压稳定充气控制
9.3.2质量流量控制器充气控制
9.4真空室内充大气时间计算
10电磁屏蔽结构设计
10.1真空镀膜设备屏蔽概述
10.2电磁辐射屏蔽设计
11蒸发源的设计计算
11.1电阻加热式蒸发源的热计算
11.2e型枪蒸发源的设计计算
11.2.1灯丝参数计算
11.2.2磁偏转线圈及灯丝位置的确定
11.2.3膜材蒸发时所需热量
11.2.4e型枪蒸发源的水冷却
11.2.5e型枪蒸发源的电源
11.2.6多枪蒸发源的设计安装
11.3感应加热式蒸发源的结构设计
11.3.1坩埚设计
11.3.2电源及其频率的选择
11.4蒸发源的蒸发特性及膜厚分布
11.4.1点蒸发源的膜厚分布
11.4.2小平面蒸发源膜厚分布
11.4.3环形蒸发源
11.4.4矩形平面蒸发源
11.4.5蒸发源与基片的相对位置
12磁控溅射靶的设计
12.1靶磁场的设计原则
12.1.1磁场强度的选择
12.1.2磁场均匀性：
12.1.3矩形靶弯道磁场设计
12.1.4磁场设计改进方法
12.2磁控靶的磁场设计计算
12.2.1三维直角坐标系中的靶磁场
12.2.2矩形平面磁控溅射靶的磁场
12.2.3圆形平面磁控溅射靶的磁场计算
12.2.4同轴圆柱磁环溅射靶的磁场计算
12.2.5同轴圆柱条形磁体溅射靶的磁场计算
12.2.6S枪溅射靶的磁场计算
12.3平面磁控靶结构改进
12.3.1运动磁场的靶结构
12.3.2双环组合磁极靶结构
12.3.3组合磁场靶结构
12.3.4磁场分流靶结构
12.3.5其他磁体形式的靶结构
12.4永磁体及导磁片设计
12.4.1永磁体材料
12.4.2导磁垫片
12.5阳极与屏蔽罩的设计
12.5.1阳极设计
12.5.2屏蔽罩设计
12.6溅射靶水冷系统的设计与计算
12.6.1冷却水流速率的计算
12.6.2冷却水管内径的计算
12.6.3冷却水管长度
12.7靶材的设计选择
12.7.1靶材的种类
12.7.2靶材的选用原则
12.7.3对靶材的技术要求
12.7.4靶材与阴极背板的连接
12.7.5常用靶材
12.8磁控溅射靶设计方法
12.8.1靶设计分析方法
12.8.2磁控靶设计程序
13溅射镀膜的膜厚均匀性设计
13.1溅射镀膜不均匀性的原因及影响因素
……
内容摘要
《真空镀膜设备》详细介绍了真空镀膜设备的设计方法与镀膜设备各机构元件的设计计算、设计参数的选择，其中重点、系统地介绍了磁控溅射靶的设计计算和溅射镀膜的膜厚均匀性设计。全书共分13章，主要讲解真空镀膜室结构、镀膜室工件架、真空镀膜机的加热与测温装置、真空镀膜机的抽气系统、真空室电和运动的导入结构、溅射镀膜设备的充布气系统、蒸发源、磁控溅射靶、溅射镀膜的膜厚均匀性等方面的设计与计算。
《真空镀膜设备》有很强的实用性，适合真空镀膜设备的设计制造、真空镀膜设备的应用等与真空镀膜技术有关的行业从事设计、设备操作与维护的技术人员使用，还可用作高等院校相关专业师生的教材及参考书。
主编推荐
《真空镀膜设备》是由冶金工业出版社出版的。
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