激光热敏光刻——原理与方法
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作者魏劲松
出版社清华大学出版社
ISBN9787302607458
出版时间2022-08
装帧精装
开本16开
定价129元
货号1202744331
上书时间2024-09-04
商品详情
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目录
第1章 光刻技术研究现状
1.1引言
1.2光刻方法
1.2.1掩模曝光技术
1.2.2无掩模光刻
1.2.3光刻技术优缺点
1.3光敏光刻胶材料
1.3.1有机光刻胶薄膜
1.3.2S/Se基硫系薄膜
1.4本章 小结
参考文献
第2章 激光热敏光刻原理
2.1引言
2.2光学光敏光刻
2.3激光热敏光刻
2.3.1原子尺度的线边缘粗糙度
2.3.2无衍射极限光刻
2.3.3跨尺度光刻
2.3.4宽波段光刻
2.3.5正性光刻胶与负性光刻胶的相互转化
2.4硫系化合物快速相变机理
2.4.1伞滑跃模型
2.4.2多元环模型
2.5激光热敏光刻与光学光敏光刻比较
2.6本章 小结
参考文献
第3章 高速旋转型激光热敏光刻系统
3.1引言
3.2系统基本架构
3.3伺服跟踪模块
3.3.1基于双柱面镜的像散法原理
3.3.2聚焦误差信号理论分析
3.3.3计算与仿真结果
3.3.4伺服跟踪模块测试
3.3.5伺服跟踪模块实验结果
3.4样品运动误差测试模块
3.4.1基于单柱面镜的像散法
3.4.2小孔寻焦法的理论分析
3.4.3样品运动台的平面度测试系统
3.4.4样品台的运动平面度测试
3.5极坐标系统图形发生器
3.6任意图形刻写的实验结果
3.7本章 小结
参考文献
第4章 激光热敏光刻中的热扩散调控
4.1引言
4.2激光热敏光刻中的热扩散效应
4.3改变热敏光刻胶的热物特性调控热扩散通道
4.3.1热扩散系数
4.3.2薄膜厚度
4.4通过热传导层调控热扩散通道
4.4.1下Si层对热斑的影响
4.4.2上Si层对热斑的影响
4.4.3上Si层与下Si层共同调控热斑
4.5曝光时间的影响
4.5.1高速刻写
4.5.2短脉冲曝光刻写
4.5.3激光热敏光刻方案的优化
4.6本章 小结
参考文献
第5章 硫化物热敏光刻胶薄膜与激光热敏光刻
5.1引言
5.2Te基硫化物热敏光刻胶
5.2.1AgInSbTe热敏光刻胶
5.2.2GeSbTe光刻胶
5.2.3TeOx光刻胶
5.3高速激光热敏纳米光刻
5.3.1光热局域化分析
5.3.2基于高速旋转缩短曝光时间
5.3.3激光热敏纳米光刻
5.4激光热敏光刻的任意特征尺寸调整
5.4.1仿真和分析
5.4.2跨尺度图形结构制造
5.4.3复杂图形结构制造
5.5本章 小结
参考文献
第6章 基于有机薄膜的激光热敏光刻
6.1引言
6.2基于热汽化与变形的热敏光刻
6.2.1分子结构分析
6.2.2热学性质
6.2.3光学性质
6.2.4光热局域化响应的理论分析
6.2.5光刻的物理图像
6.2.6光刻图形结构
6.3热汽化诱导的一次性光刻
6.4基于热交联效应的光刻
6.4.1聚焦光斑诱导局域曝光后烘技术
6.4.2不同曝光功率诱导的光敏光刻与热敏光刻转变
6.5本章 小结
参考文献
第7章 透明薄膜的激光热敏光刻
7.1引言
7.2透明薄膜的激光热敏光刻原理
7.3透明薄膜的光热性质
7.4ZnSSiO2薄膜的选择性湿刻机理
7.4.1键合模型
7.4.2包层模型
7.5光吸收层辅助的微纳光刻
7.5.1AgInSbTe作为光吸收层
7.5.2Ge作为光吸收层
7.5.3无定形Si作为光吸收层
7.5.4AlNiGd金属玻璃作为光吸收层
7.6AgOx作为光吸收层直接图形化
7.7本章 小结
参考文献
第8章 激光热敏灰度光刻与彩色打印
8.1引言
8.2基于微纳结构的激光灰度光刻
8.2.1马兰戈尼效应实现微纳图形化
8.2.2内部汽化膨胀形成鼓包图形
8.2.3利用激光诱导微纳结构进行灰度光刻
8.3基于结晶效应的激光灰度光刻
8.3.1激光能量诱导的反射率变化
8.3.2基于Ge2Sb2Te5薄膜的灰度光刻
8.3.3Ge2Sb2Te5薄膜灰度光刻的应用
8.4基于TeOx结构演化的灰度光刻
8.4.1结构演化特性
8.4.2结构演化诱导灰度图形
8.5其他灰度光刻方法
8.5.1表面氧化
8.5.2晶粒细化
8.6激光热敏彩色打印
8.6.1基于Sb2Te3薄膜的彩色打印
8.6.2基于Ge2Sb2Te5薄膜的彩色打印
8.7本章 小结
参考文献
第9章 激光热敏光刻胶的图形转移
9.1引言
9.2基于ICP/RIE的图形转移
9.2.1无机热敏光刻胶的图形转移
9.2.2有机热敏光刻胶的图形转移
9.3基于刻蚀技术的GaAs图形转移
9.4基于光存储技术的图形转移
9.4.1电镀
9.4.2直接模板压印
9.4.3RIE转移
参考文献
索引
内容摘要
本书首先对目前各种光刻技术的原理、方法和特点进行描述与分析比较，由此引出本书的主题——激光热敏光刻； 然后详细阐述激光热敏光刻的物理过程、仪器系统、光刻策略、用于**光斑尺寸的纳米光刻、跨尺度光刻、宽波段光刻、分辨率极限光刻、灰度图形光刻，以及图形转移的方法和相应的实验结果及应用事例。希望本书阐述的内容能从另一个角度分析和理解光刻，从而给目前的光刻技术带来变革性影响，以满足未来个性化和智能化的微电子芯片与微纳结构光电子器件的需求。
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