真空镀膜技术与应用
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作者编者:陆峰|责编:戴燕红
出版社化学工业
ISBN9787122402455
出版时间2022-03
装帧平装
开本其他
定价138元
货号1202597396
上书时间2024-06-02
商品详情
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目录
第1章 真空镀膜技术概论
1.1 概述
1.2 影响固体表面结构、形貌及其性能的因素
1.2.1 原子和分子构成固体物质
1.2.2 多晶体物质结构
1.2.3 材料受到的各种应力负荷
1.2.4 材料加工所带来的缺陷
1.2.5 基片表面涂敷硬质薄膜的必要性
1.3 基片与薄膜的匹配
1.3.1 基片的表面形貌、热膨胀系数对薄膜的影响
1.3.2 基片与薄膜的选择原则
1.4 真空镀膜及其工艺特点和应赋予涂层的功能
1.5 薄膜的特征
1.5.1 薄膜的结构特征
1.5.2 金属薄膜的电导特征
1.5.3 金属薄膜电阻温度系数特征
1.5.4 薄膜的光学特征
1.5.5 薄膜的密度特征
1.5.6 薄膜的时效变化特征
1.6 薄膜的应用
1.6.1 电子工业用薄膜
1.6.2 光学工业中应用的各种光学薄膜
内容摘要
本书系统全面地阐述了真空镀膜技术的基本理论知识体系以及各种真空镀膜方法、设备及工艺。对的薄膜类型、性能检测及评价、真空镀膜技术及装备等内容也进行了详细的介绍，如金刚石薄膜的应用及大面积制备技术、工艺、性能评价等。
本书叙述深入浅出，内容丰富而精炼，工程实践性强，在强化理论的同时，重点突出了工程应用，具有很强的实用性，通俗易懂、简单易学。
本书适用于从事真空镀膜技术、薄膜与表面工程、材料工程等领域相关研究、设计、设备操作及维护工作的技
术人员，也可以作为与真空镀膜技术有关的研究人员和真
空专业的本科生、研究生教材及参考书使用。
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