纳米加工技术与原理
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作者[加拿大]MariaStepanova,StevenDew编,段辉高,陈艺勤,胡跃强,李平 译
出版社国防工业出版社
ISBN9787118123227
出版时间2021-07
装帧精装
开本16开
定价119元
货号1202522868
上书时间2024-05-30
商品详情
- 品相描述：全新
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作者简介
目录
第1章 纳米加工研究方向简介
1.1 纳米加工
1.2 纳米光刻
1.3 纳米薄膜沉积
1.4 纳米尺度下的刻蚀及图形化工艺
1.5 小结
参考文献
第2章 电子束曝光与显影的基本原理
2.1 引言
2.1.1 电子传输
2.1.2 电子束抗蚀剂
2.1.3 抗蚀剂的显影
2.1.4 工艺参数
2.2 PMMA抗蚀剂工艺窗口
2.2.1 温度对工艺窗口的影响
2.2.2 曝光剂量和显影时间的相互影响
2.2.3 曝光电压的影响
2.3 EBL工艺优化：典型示例
2.3.1 低压曝光、低温显影PMMA工艺
2.3.2 通过控制PMMA实现亚20nm宽桥结构
2.3.3 HSQ亚10nm工艺
2.3.4 HSQ抗蚀剂作为刻蚀掩模：8nm宽桥结构
2.4 绝缘衬底
2.5 小结
参考文献
第3章 电子束曝光与抗蚀剂工艺的模拟仿真
3.1 引言
3.2 仿真流程图
3.3 电子束曝光仿真模块
3.3.1 建模方法
3.3.2 能量沉积函数
3.3.3 电子束形效应
3.3.4 模拟版图中的能量分布
3.3.5 邻近效应校正
3.4 抗蚀剂模拟模块
3.4.1 宏观尺度下的抗蚀剂建模
3.4.2 介观尺度下的抗蚀剂显影模型建模
3.5 电子束曝光模拟的商用化软件
3.5.1 电子束一物质相互作用
3.5.2 邻近效应校正
3.5.3 现代化的软件工具
3.6 实例
3.6.1 电子束图形化模拟及其在多层膜衬底上复杂版图的测量
3.6.2 模拟电子束曝光中白噪声对32nm节点CD及LER的影响
3.7 小结
参考文献
第4章 氦离子光刻的原理及性能
4.1 引言
4.2 氮离子束系统
4.3 氮离子与物质的相互作用
内容摘要
纳米图形加工是目前微纳米科技中的关键技术，本书邀请了国际上本领域的多位专家在自己的特长领域撰写了相关章节，对纳米图形加工技术做了较全面的介绍，对我国从事微纳米加工、
精密制造、微纳光电器件等领域的专家学者有借鉴作用。本书为电子、材料以及物理等领域的科学家和工程师更新纳米结构加工的新核心技术。
本书兼顾了纳米加工的基础原理和应用实例。潜在的读者，即所有对纳米结构加工新方法感兴趣的人员，包括工业界的工艺工程师、
学术研究人员、研究生及高年级本科生。本书也可以作为教材为研究生开设一个学期的纳米加工方面的课程，尽管不是专门为教学目标而编写。
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