• 场地与景观设计图解(原著第五版)
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场地与景观设计图解(原著第五版)

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作者(美)戴维·A·戴维斯//西奥多·D·沃克|译者:蔡红

出版社中国建筑工业

ISBN9787112118632

出版时间2010-04

装帧其他

开本其他

定价69元

货号11556790

上书时间2024-06-30

谢岳书店

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   商品详情   

品相描述:全新
商品描述
作者简介
西奥多·D·沃克(THeodoreD.Walker)美国景观设计师协会(ASLA)会员,曾从事景观设计40余年,并于1985年被聘为亚利桑那州立大学景观与规划学校的教师。
戴维·A·戴维斯(DavidA.Davis)美国景观设计师协会(ASLA)会员。过去10年里,一直在亚利桑那州的坦帕市从事景观设计。作为DesignWorkstlop的合作者,他参与的项目遍及美国西部及空旷的西南部,有些项目甚至远及海外。在其职业生涯中,一些高水平的景观设计师、建筑师及规划设计师曾与之进行过合作,并且他们中的大多数都将自己的作品贡献给了本书。

目录
前言
第一章 平面制图及创作过程
  绪论
  开始之前
  建构你的画面
  文字及书法
第二章 彩色图
第三章 场地分析
第四章 概念设计
第五章 施工文件
第六章 精美的渲染图、剖面图及立面图

内容摘要
 作为一名景观设计师,你的成功在很大程度上将依赖于你绘画及渲染的水准一一你将在设计的各个阶段以此来表达自己的设计思想。本书将为你提供大量范图,并教你如何创作具有说服力的示意图,以便向既定的观
众清晰、准确、完美地表达你的设计构思。本书作者通过大量当代设计作品,向你展示了最佳的传统图像表现方式以及在某些先进的景观建筑公司中所采用的创新技术。新版本的特色包括:包含了设计进程各阶段的图像表现方式;手绘渲染与计算机技术相结合;内容涉及文字、彩图、场地分析、方案图、施工文件及精美的渲染图、剖面图和立面图;275幅全新范图;48页彩图画廊;作品来自近50家知名公司以及Mesa设计集团。
本书曾经在图像表现技术方面培养了一代景观设计师,其更新扩充后的版本(即第五版)将成为景观设计学的学生及刚入门的景观设计师们的必备读物。它也可作为景观设计师、建筑师、规划设计师、土木工程师及景观工程承包商们有用的工作资料。

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