• 科学技术发展简史
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科学技术发展简史

7.4 1.8折 42 九五品

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天津武清
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作者王士舫,董自励编著

出版社北京大学出版社

ISBN9787301174364

出版时间2010-11

版次1

装帧平装

开本16开

纸张胶版纸

页数459页

字数99999千字

定价42元

上书时间2024-05-10

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品相描述:九五品
商品描述
基本信息
书名:科学技术发展简史
定价:42.00元
作者:王士舫,董自励编著
出版社:北京大学出版社
出版日期:2010-11-01
ISBN:9787301174364
字数:502000
页码:459
版次:1
装帧:平装
开本:12开
商品重量:
编辑推荐

内容提要
本书按照古代、近代和现代的历史顺序简要介绍了两千多年来中外科学技术发展的主要成就,涵盖了上自天文、下至地理,从无机界到有机界,从微观到客观各个领域所取得的重大成果以及各个时期具有划时代或重大意义的技术发明。  本书突出了现代部分,并密切跟踪当今科学技术方面的新发现和新发明,尤其对我国经济生活中备受关注的环境问题、能源问题和海洋问题作了重点阐述,对生命科学、纳米技术以及机器人等也作了较为简明的概述。  本书是在作者三十多年来对资料的搜集、整理分析和归纳的基础上完成的,所取资料丰富、翔实、可靠,读者不仅可以从中汲取知识营养、扩大知识面、拓宽视野,而且可以激起发散思维,从中受到深刻启迪,净化心灵。  本书可谓一部高级科普读物,是一部信息量相当大、不可不读的好书。
目录

作者介绍
王士舫,女,1935年9月出生于山东省黄县。原中国人民解放军电子工程学院基础部教授。1956年考入大连工学院化机系,后留校任教,1964年考入中国人民大学哲学系经典著作进修班(一年)。1974年7月调入北京大学任教,1980年底选调解放军电子工程学院任教。先后在大连工学院、北
序言

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