纳米集成电路制造工艺
￥ 103.07 ￥ 69 九五品
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天津武清
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作者张汝京 等 著
出版社清华大学出版社
ISBN9787302360278
出版时间2014-07
版次1
装帧平装
开本16开
纸张胶版纸
页数433页
字数99999千字
定价69元
上书时间2024-04-28
商品详情
- 品相描述：九五品
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基本信息
书名:纳米集成电路制造工艺
定价：69.00元
作者:张汝京 等 著
出版社：清华大学出版社
出版日期：2014-07-01
ISBN：9787302360278
字数：718000
页码：433
版次：1
装帧：平装
开本：16开
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编辑推荐
超大规模集成电路的生产工艺，从“微米级”到“纳米级”发生了许多根本上的变化。甚至，从45nm缩小至28nm（以及更小的线宽）也必须使用许多新的生产观念和技术。张汝京先生是随着半导体产业的发展成长起来的领军人物，见证了几个技术世代的兴起与淘汰。他本人有着深厚的学术根基，以及丰富的产业经验，其带领的团队是多年来在业界top半导体代工厂一线工作的科研人员，掌握了业界领先的制造工艺。他们处理实际问题的经验以及从产业出发的独特技术视角，相信会给读者带来启发和帮助。
内容提要
《纳米集成电路制造工艺》共分19章，涵盖先进集成电路工艺的发展史，集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化，器件参数与工艺相关性，DFM（Desigfor Manufacturing），集成电路检测与分析、集成电路的可靠性，生产控制，良率提升，芯片测试与芯片封装等项目和课题。 国内从事半导体产业的科研工作者、技术工作者和研究生可使用《纳米集成电路制造工艺》作为教科书或参考资料。
目录
作者介绍
序言
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【封面】
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