热丝化学气相沉积技术

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作者(日) 松村英树 ... [等] 著

出版社化学工业出版社

ISBN9787122456632

出版时间2024-06

装帧精装

开本其他

定价198元

货号4645804

上书时间2024-12-24

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商品描述: 目录
本书系统介绍了Cat-CVD技术, 包括其基本原理、设备设计及应用。具体包括Cat-CVD的物理基础及其等离子增强化学气相沉积的区别、Cat-CVD中化学反应的分析方法及基本原理、Cat-CVD的物理化学基础、Cat-CVD制备的无机薄膜性能、引发化学气相沉积 (iCVD) 合成有机聚合物、Cat-CVD设备运行中的物理基础与技术、Cat-CVD在太阳电池和各种半导体器件中的应用、Cat-CVD系统中的活性基团及其应用, 最后利用Cat-CVD腔室中产生的活性基团, 在低温下进行半导体掺杂。

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