现代高纯气体制取、分析与安全使用
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九品
仅1件
作者尹恩华 著
出版社科学出版社
出版时间2015-06
版次1
装帧平装
货号18-1-4
上书时间2024-03-22
商品详情
- 品相描述:九品
图书标准信息
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作者
尹恩华 著
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出版社
科学出版社
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出版时间
2015-06
-
版次
1
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ISBN
9787030449672
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定价
108.00元
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装帧
平装
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开本
16开
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纸张
胶版纸
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页数
344页
-
字数
400千字
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正文语种
简体中文
- 【内容简介】
-
《现代高纯气体:制取、分析与安全使用》从高纯气体与集成电路等的关系说明气体纯度的重要性。集成电路的制造包括成膜、刻蚀、掺杂和注入、平衡及清洗等,各流程无不需要各种高纯气体。高纯气体的制取是《现代高纯气体:制取、分析与安全使用》的核心。《现代高纯气体:制取、分析与安全使用》介绍国内外最新文献,包括:吸附、精馏、离子液体、贮氢材料、钯扩散、熔体合金、膜分离、吸杂剂、多级离心和制备色谱等新技术。除了气相色谱是高纯气体分析的主体外,《现代高纯气体:制取、分析与安全使用》介绍最新光谱、质谱和纳米技术在高纯气体中杂质分析的应用。考虑高纯气体绝大部分都是易燃易爆和剧毒气体,使用的安全措施尤为重要,故《现代高纯气体:制取、分析与安全使用》还介绍了容器、介质、传感器和废气的节能减排等相关知识。
- 【目录】
-
前言
第一章高纯气体与电子学的关系
第一节高纯气的分类和应用
一引言
二根据半导体工艺用气的分类
第二节气体纯度对半导体器件(光伏光纤)的影响
一高纯气体在半导体中的具体应用分类
二气体纯度和杂质及其表示方法
三气体中的杂质分类
四大规模集成电路对气体纯度的要求
五气体中杂质对半导体器件(光伏光纤电光源)的影响
参考文献
第二章气体纯化
第一节吸附与吸附剂
一吸附分离
二吸附剂的物理性质
三吸附剂及其他纯化材料和性能
四气固表面吸附平衡
五吸附剂的具体应用
六分子筛的其他应用
七吸附树脂
第二节精馏
一蒸馏与精馏
二气液相平衡及计算
三相平衡常数及计算
四简单蒸馏
五精馏
六精馏塔
第三节其他纯化气体方法
一膜分离技术
二催化剂
三吸杂剂
四熔体合金
五钯合金扩散净化
六贮氢材料
七离子液体
第四节现代电子气体的制造和纯化
一新型的吸附(催化)剂
二周期表ⅠA族金属吸附剂(scavener)
三电子用特气的脱除痕量水
四超低发射(ultralowemision,ULE)碳
五终端低温纯化器
六各种电子气的纯化
七电化学制备砷烷气体
八三氟化氮萃取精馏纯化
九六氟化钨的合成和纯化
十六氟化钼的制备和纯化
十一六氟化硫的合成和纯化
十二氯气等卤化物气体纯化
十三金属烷基化合物的制备和纯化
十四三甲基硼的特点及纯化技术指标
十五多级离心分离技术应用于气体纯化
十六制备色谱
第五节混合气的配制和纯化
一常用集成电路混合气
二电光源用混合气
三激光混合气
四电子混合气的典型浓度和技术指标
五电子混合气配制精度
六混合气的纯化——-镍磷催化剂制备
参考文献
附录
第三章高纯气体分析
第一节气相色谱分析
一气相色谱法分析的对象
二气相色谱分析仪器简介和方法
三色谱术语和色谱峰
四色谱的基本理论
五色谱仪的构成
六气相色谱痕量分析
第二节痕量水氧的分析
一痕量水分析
二痕量氧分析
第三节粒子分析
一引言
二微粒(金属杂质)对电子工业的重要性
三大气尘的粒度分布
四粒径
五测定方法
第四节现代高纯气体中痕量杂质分析
一CMS测定砷烷中杂质
二CICPMS锗烷中磷烷分析
三CC多维色谱技术
四浓缩(富集)法分析高纯气体中杂质实例
五分析仪器小型化
六其他的痕量气体分析仪器和分析方法
参考文献
第四章压力容器——-气瓶
第一节气瓶
一定义
二气瓶的安全监督和管理
三按安全管理的需要分类
四气瓶命名规则
五气瓶标志
第二节气瓶附件
一气瓶阀
二气瓶压力泄放装置和回火防止器
第三节低温液体贮运设备及其附件
一引言
二低温液体的特性和应用
第四节气体安全和安全技术
一燃烧和火灾事故
二爆炸事故及防爆
三气体毒物
第五节现代气体贮存介质和容器
一引言
二离子液体
三氟金属骨架材料
四PP(polymerizedpolymeric)和POP(porousoranicpolymer)
参考文献
附录
附图
第五章危险性气体的检测和节能减排
第一节气敏传感器
一引言
二常见气敏元件的分类
三质量传感器
四气敏传感器的应用
五基于新材料和MEMS的传感技术
六选择性的气敏传感器
第二节节能减排实例
一节能减排实例一
二节能减排实例二
三节能减排实例三
四节能减排实例四
五节能减排实例五
六节能减排实例六
七节能减排实例七
参考文献
附录
附录1:常见电子气体国家标准(B/T)行业标准(H)编号列表(部分)
附录2:国外电子气体标准(部分)296附录3:常用气相色谱图
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