磁场下复合电沉积法制备铁-硅镀层

图书标准信息

• 作者 龙琼 著
• 出版社 中国矿业大学出版社
• 出版时间 2021-01
• 版次 1
• ISBN 9787564648060
• 定价 48.00元
• 装帧 平装
• 开本 16开
• 页数 136页
• 字数 212千字

【内容简介】

本书共分为6章，主要内容包含：绪论，Fe-Si复合镀层制备研究方案，无磁场下Fe-Si镀层的制备，水平磁场下制备Fe-Si复合镀层，竖直强磁场下制备Fe-Si复合镀层，以及磁场下电化学研究电沉积铁过程等。本书所述内容具有前瞻性和实用性。本书可供从事高硅钢薄带制备、电磁冶金、表面改性、新材料制备等研究方向的人员使用，亦可供相关企业技术人员参考使用。

【目录】

章绪论

1.1研究背景

1.2硅钢的能要求及特

1.3高硅钢的制备工艺

1.4磁场下复合电沉积技术

1.5研究内容

第2章fe-si镀层制备方案

2.1电钹液成分及工作条件

2.2实验仪器设备与材料

2.3实验方案

2.4制备及分析测试方

第3章无磁场下制备fe-si镀层

3.1下置式搅拌电镀制备fe-si镀层

3.2循环镀液搅拌电镀制备fe-si镀层

3.3本章小结

第4章水磁场下制备fe-si镀层

4.1磁场方向、电极排布对镀层形貌及硅含量的影响

4.2电流密度对镀层硅含量的影响

4.3磁场与电流方向对镀层形貌及硅含量的影响

4.4电沉积过程分析

4.5本章小结

第5章强磁场下制备fe-si镀层

5.1垂直强磁场对镀层形貌及硅含量的影响

5.2行强磁场对镀层形貌及硅含量的影响

5.3强磁场下电流密度对镀层硅含量的影响

5.4磁场对阴极电流效率的影响

5.5颗粒在磁场中受到的电磁力的计算

5.6磁感应强度对镀层结构的影响

5.7本章小结

第6章磁场下电化学研究电沉积铁过程

6.1复合电沉积过程理论基础

6.2磁场下对纯铁电镀沉积过程的电化学分析研究

6.3本章小结

参文献